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Sistema di incisione al plasma ICP

Sistema di incisione al plasma ICP

Il supporto rivestito in SiC di Semicorex per il sistema di incisione al plasma ICP è una soluzione affidabile ed economica per i processi di manipolazione dei wafer ad alta temperatura come epitassia e MOCVD. I nostri supporti sono dotati di un sottile rivestimento in cristallo SiC che fornisce una resistenza al calore superiore, uniformità termica uniforme e resistenza chimica duratura.

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Supporto per wafer per incisione ICP

Supporto per wafer per incisione ICP

Il porta wafer per incisione ICP di Semicorex è la soluzione perfetta per i processi di manipolazione dei wafer ad alta temperatura come epitassia e MOCVD. Con una resistenza all'ossidazione stabile e ad alta temperatura fino a 1600°C, i nostri supporti assicurano profili termici uniformi, schemi di flusso laminare del gas e prevengono la contaminazione o la diffusione di impurità.

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Sistema epi a cilindro riscaldato induttivamente per epitassia LPE

Sistema epi a cilindro riscaldato induttivamente per epitassia LPE

Se avete bisogno di un suscettore di grafite con eccezionali proprietà di conducibilità termica e distribuzione del calore, non cercate oltre il sistema Semicorex a botte riscaldata induttivamente Epi per l'epitassia LPE. Il suo rivestimento SiC ad alta purezza offre una protezione superiore in ambienti ad alta temperatura e corrosivi, rendendolo la scelta ideale per l'uso in applicazioni di produzione di semiconduttori.

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Struttura a botte per reattore epitassiale a semiconduttore

Struttura a botte per reattore epitassiale a semiconduttore

Con le sue eccezionali proprietà di conducibilità termica e distribuzione del calore, la struttura a botte Semicorex per reattore epitassiale a semiconduttore è la scelta perfetta per l'uso nei processi LPE e in altre applicazioni di produzione di semiconduttori. Il suo rivestimento SiC ad alta purezza offre una protezione superiore in ambienti ad alta temperatura e corrosivi.

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Suscettore a barilotto in grafite rivestito in SiC

Suscettore a barilotto in grafite rivestito in SiC

Se stai cercando un suscettore in grafite ad alte prestazioni da utilizzare in applicazioni di produzione di semiconduttori, il suscettore a cilindro in grafite rivestito in SiC Semicorex è la scelta ideale. Le sue eccezionali proprietà di conducibilità termica e distribuzione del calore ne fanno la scelta ideale per prestazioni affidabili e costanti in ambienti ad alta temperatura e corrosivi.

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Suscettore a botte per epitassia in fase liquida

Suscettore a botte per epitassia in fase liquida

Se avete bisogno di un suscettore di grafite in grado di funzionare in modo affidabile e costante anche negli ambienti corrosivi e ad alta temperatura più esigenti, il suscettore a barilotto Semicorex per l'epitassia in fase liquida è la scelta perfetta. Il suo rivestimento in carburo di silicio offre un'eccellente conduttività termica e distribuzione del calore, garantendo prestazioni eccezionali nelle applicazioni di produzione di semiconduttori.

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