Puoi essere certo di acquistare il supporto per incisione ICP dalla nostra fabbrica e ti offriremo il miglior servizio post-vendita e consegne puntuali. Il suscettore del wafer Semicorex è realizzato in grafite rivestita in carburo di silicio utilizzando il processo di deposizione chimica in fase vapore (CVD). Questo materiale possiede proprietà uniche, tra cui resistenza alle alte temperature e agli agenti chimici, eccellente resistenza all'usura, elevata conduttività termica ed elevata resistenza e rigidità. Queste proprietà lo rendono un materiale interessante per varie applicazioni ad alta temperatura, compresi i sistemi di incisione al plasma accoppiato induttivamente (ICP).
Forniamo servizi personalizzati, vi aiutiamo a innovare con componenti che durano più a lungo, riducono i tempi di ciclo e migliorano i rendimenti.
Il disco per incisione Semicorex SiC ICP non è semplicemente un componente; è un fattore essenziale per la produzione di semiconduttori all'avanguardia poiché l'industria dei semiconduttori continua la sua incessante ricerca di miniaturizzazione e prestazioni, la domanda di materiali avanzati come il SiC non farà altro che intensificarsi. Garantisce la precisione, l'affidabilità e le prestazioni necessarie per alimentare il nostro mondo guidato dalla tecnologia. Noi di Semicorex ci dedichiamo alla produzione e alla fornitura di dischi per incisione SiC ICP ad alte prestazioni che fondono la qualità con l'efficienza dei costi.**
Per saperne di piùInvia richiestaIl susceptor Semicorex SiC per ICP Etch è prodotto con l'obiettivo di mantenere elevati standard di qualità e coerenza. I robusti processi di produzione utilizzati per creare questi suscettori garantiscono che ogni lotto soddisfi criteri prestazionali rigorosi, fornendo risultati affidabili e coerenti nell'incisione dei semiconduttori. Inoltre, Semicorex è attrezzata per offrire programmi di consegna rapidi, il che è fondamentale per tenere il passo con le rapide richieste di turnaround dell'industria dei semiconduttori, garantendo che i tempi di produzione siano rispettati senza compromettere la qualità. Noi di Semicorex ci dedichiamo alla produzione e alla fornitura di prodotti ad alte prestazioni Suscettore SiC per ICP Etch che fonde la qualità con l'efficienza in termini di costi.**
Per saperne di piùInvia richiestaIl componente ICP rivestito in SiC di Semicorex è progettato specificamente per processi di gestione di wafer ad alta temperatura come epitassia e MOCVD. Con un sottile rivestimento in cristalli SiC, i nostri supporti forniscono una resistenza al calore superiore, un'uniformità termica uniforme e una resistenza chimica duratura.
Per saperne di piùInvia richiestaQuando si tratta di processi di gestione dei wafer come epitassia e MOCVD, il rivestimento SiC ad alta temperatura di Semicorex per camere di incisione al plasma è la scelta migliore. I nostri supporti garantiscono una resistenza al calore superiore, un'uniformità termica uniforme e una resistenza chimica duratura grazie al nostro sottile rivestimento in cristalli SiC.
Per saperne di piùInvia richiestaIl vassoio per incisione al plasma ICP di Semicorex è progettato specificamente per processi di gestione dei wafer ad alta temperatura come epitassia e MOCVD. Con una resistenza all'ossidazione stabile e alle alte temperature fino a 1600°C, i nostri carrier forniscono profili termici uniformi, schemi di flusso di gas laminare e prevengono la contaminazione o la diffusione di impurità.
Per saperne di piùInvia richiestaIl supporto rivestito in SiC di Semicorex per il sistema di incisione al plasma ICP è una soluzione affidabile ed economica per processi di gestione dei wafer ad alta temperatura come epitassia e MOCVD. I nostri supporti sono dotati di un sottile rivestimento in cristalli SiC che fornisce resistenza al calore superiore, uniformità termica uniforme e resistenza chimica duratura.
Per saperne di piùInvia richiesta