Puoi essere certo di acquistare il supporto per incisione ICP dalla nostra fabbrica e ti offriremo il miglior servizio post-vendita e consegne puntuali. Il suscettore del wafer Semicorex è realizzato in grafite rivestita in carburo di silicio utilizzando il processo di deposizione chimica in fase vapore (CVD). Questo materiale possiede proprietà uniche, tra cui resistenza alle alte temperature e agli agenti chimici, eccellente resistenza all'usura, elevata conduttività termica ed elevata resistenza e rigidità. Queste proprietà lo rendono un materiale interessante per varie applicazioni ad alta temperatura, compresi i sistemi di incisione al plasma accoppiato induttivamente (ICP).
Forniamo servizi personalizzati, vi aiutiamo a innovare con componenti che durano più a lungo, riducono i tempi di ciclo e migliorano i rendimenti.
Il vettore SIC Semicorex per ICP è un supporto di wafer ad alte prestazioni realizzato in grafite rivestita di SIC, progettato specificamente per l'uso in sistemi di attacco e deposizione del plasma (ICP) accoppiati induttivamente. Scegli Semicorex per la nostra qualità anisotropica di grafite anisotropica, la produzione di piccoli batch di precisione e l'impegno intransigente per la purezza, la coerenza e le prestazioni del processo.*
Per saperne di piùInvia richiestaI portatori di wafer rivestiti di SiC SIC sono suscettori di grafite ad alta purezza rivestiti con carburo di silicio CVD, progettati per un supporto ottimale del wafer durante i processi di semiconduttore ad alta temperatura. Scegli Semicorex per la qualità del rivestimento senza eguali, la produzione di precisione e la comprovata affidabilità affidabile dai principali FAB a semiconduttore in tutto il mondo.*
Per saperne di piùInvia richiestaIl vettore di wafer di incisione Semicorex con rivestimento CVD SIC è una soluzione avanzata e ad alte prestazioni su misura per le esigenti applicazioni di incisione a semiconduttore. La sua stabilità termica superiore, resistenza chimica e durata meccanica lo rendono un componente essenziale nella fabbricazione moderna del wafer, garantendo un'elevata efficienza, affidabilità ed efficacia in termini di costi per i produttori di semiconduttori in tutto il mondo.*
Per saperne di piùInvia richiestaIl disco per incisione Semicorex SiC ICP non è semplicemente un componente; è un fattore essenziale per la produzione di semiconduttori all'avanguardia poiché l'industria dei semiconduttori continua la sua incessante ricerca di miniaturizzazione e prestazioni, la domanda di materiali avanzati come il SiC non farà altro che intensificarsi. Garantisce la precisione, l'affidabilità e le prestazioni necessarie per alimentare il nostro mondo guidato dalla tecnologia. Noi di Semicorex ci dedichiamo alla produzione e alla fornitura di dischi per incisione SiC ICP ad alte prestazioni che fondono la qualità con l'efficienza dei costi.**
Per saperne di piùInvia richiestaIl susceptor Semicorex SiC per ICP Etch è prodotto con l'obiettivo di mantenere elevati standard di qualità e coerenza. I robusti processi di produzione utilizzati per creare questi suscettori garantiscono che ogni lotto soddisfi criteri prestazionali rigorosi, fornendo risultati affidabili e coerenti nell'incisione dei semiconduttori. Inoltre, Semicorex è attrezzata per offrire programmi di consegna rapidi, il che è fondamentale per tenere il passo con le rapide richieste di turnaround dell'industria dei semiconduttori, garantendo che i tempi di produzione siano rispettati senza compromettere la qualità. Noi di Semicorex ci dedichiamo alla produzione e alla fornitura di prodotti ad alte prestazioni Suscettore SiC per ICP Etch che fonde la qualità con l'efficienza in termini di costi.**
Per saperne di piùInvia richiestaIl componente ICP rivestito in SiC di Semicorex è progettato specificamente per processi di gestione di wafer ad alta temperatura come epitassia e MOCVD. Con un sottile rivestimento in cristalli SiC, i nostri supporti forniscono una resistenza al calore superiore, un'uniformità termica uniforme e una resistenza chimica duratura.
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