Notizie dall'azienda

Quali sono le difficoltà tecniche della fornace di crescita cristallina SiC

La fornace di crescita cristallina è l'attrezzatura centrale per la crescita di cristalli in carburo di silicio. È simile alla tradizionale fornace di crescita cristallina cristallina di livello silicio. La struttura del forno non è molto complicata. È composto principalmente dal corpo del forno, da......

Cos'è il rivestimento in carbonio simile al vetro

Semicorex offre in feltro termico di alta qualità e rivestimento in carbonio simile al vetro.

Cos'è un wafer fittizio?

Nel processo di produzione dei semiconduttori, i wafer costituiscono la base della produzione dei chip. Tra questi, un tipo speciale di wafer, denominato Dummy Wafer, svolge un ruolo fondamentale nel garantire la stabilità delle apparecchiature e nel controllare i costi di produzione.

Materiali gerarchici di carbonio poroso: sintesi e introduzione

Sintetizzazione di polvere di carburo di silicio ad elevata purezza

La polvere di carburo di silicio ad alta purezza presenta eccezionali caratteristiche di ampio intervallo di banda, che la rendono un materiale ideale per la produzione di dispositivi elettronici ad alta frequenza e ad alta potenza.

Processo PECVD

La deposizione chimica in fase vapore potenziata dal plasma (PECVD) è una tecnologia ampiamente utilizzata nella produzione di chip. Utilizza l'energia cinetica degli elettroni all'interno del plasma per attivare le reazioni chimiche nella fase gassosa, ottenendo così la deposizione di film sottile.