La grafite con rivestimento TaC viene creata rivestendo la superficie di un substrato di grafite ad elevata purezza con uno strato sottile di carburo di tantalio mediante un processo proprietario di deposizione chimica in fase vapore (CVD).
Il carburo di tantalio (TaC) è un composto costituito da tantalio e carbonio. Ha una conduttività elettrica metallica e un punto di fusione eccezionalmente alto, che lo rendono un materiale ceramico refrattario noto per la sua robustezza, durezza e resistenza al calore e all'usura. Il punto di fusione dei carburi di tantalio raggiunge il picco a circa 3880°C a seconda della purezza e ha uno dei punti di fusione più alti tra i composti binari. Ciò lo rende un'alternativa interessante quando le richieste di temperature più elevate superano le capacità prestazionali utilizzate nei processi epitassiali di semiconduttori composti come MOCVD e LPE.
Dati sui materiali del rivestimento Semicorex TaC
|
Progetti |
Parametri |
|
Densità |
14,3 (gr/cm³) |
|
Emissività |
0.3 |
|
CET (×10-6/K) |
6.3 |
|
Durezza (HK) |
2000 |
|
Resistenza (Ohm-cm) |
1×10-5 |
|
Stabilità termica |
<2500 ℃ |
|
Modifica della dimensione della grafite |
-10~-20um (valore di riferimento) |
|
Spessore del rivestimento |
Valore tipico ≥20um (35um±10um) |
|
|
|
|
Quelli sopra riportati sono valori tipici |
|
I componenti rivestiti in TaC Semicorex in crescita epitassiale sono una preziosa parte lavorata situata nella presa d'aria nel processo epitassiale nel semiconduttore. Semicorex è un'azienda di prim'ordine specializzata nella tecnologia di rivestimento CVD TaC in Cina ed esporta prodotti in tutto il mondo.*
Per saperne di piùInvia richiestaIl supporto per cristalli seme rivestito in TaC è un componente ad alte prestazioni progettato specificamente per l'ambiente di crescita dei materiali semiconduttori. In qualità di produttore leader di supporti per cristalli seme rivestiti con TTaC, semicorex offre soluzioni efficienti per componenti principali nel campo della produzione di semiconduttori di fascia alta.
Per saperne di piùInvia richiestaSemicorex TaC Coating Pedestal Supporter è un componente critico progettato per sistemi di crescita epitassiale, specificatamente studiato per supportare i piedistalli dei reattori e ottimizzare la distribuzione del flusso di gas di processo. Semicorex offre una soluzione ad alte prestazioni e progettata con precisione che combina integrità strutturale, stabilità termica e resistenza chimica superiori, garantendo prestazioni costanti e affidabili nelle applicazioni avanzate di epitassia.*
Per saperne di piùInvia richiestaIl suscettore rivestito Semicorex CVD TaC è una soluzione premium progettata per i processi epitassiali MOCVD, che fornisce eccezionale stabilità termica, purezza e resistenza alla corrosione in condizioni di processo estreme. Semicorex si concentra sulla tecnologia di rivestimento di precisione che garantisce una qualità costante dei wafer, una durata estesa dei componenti e prestazioni affidabili in ogni ciclo di produzione.*
Per saperne di piùInvia richiestaI crogioli rivestiti Semicorex TaC sono contenitori ad alte prestazioni progettati per applicazioni a temperature estreme, adatti sia per la fusione dei metalli che per processi avanzati di semiconduttori. Scegliere Semicorex significa avere accesso a una tecnologia di rivestimento all'avanguardia e a competenze ingegneristiche che garantiscono purezza, durata e stabilità eccezionali negli ambienti più esigenti.*
Per saperne di piùInvia richiestaLa piastra planetaria rivestita in TaC Semicorex è un componente ad alta precisione progettato per la crescita epitassiale MOCVD, caratterizzato da movimento planetario con tasche multiple di wafer e controllo ottimizzato del flusso di gas. Scegliere Semicorex significa accedere a tecnologie di rivestimento avanzate e competenze ingegneristiche che garantiscono durata, purezza e stabilità di processo eccezionali per l'industria dei semiconduttori.*
Per saperne di piùInvia richiesta