Cina Forno CVD Produttori, Fornitori, Fabbrica

Forni CVD utilizzati per il processo di deposizione chimica in fase di vapore (CVD). La deposizione chimica da vapore è un processo in cui un film sottile viene depositato su un substrato utilizzando una reazione chimica tra i gas precursori vaporizzati e una superficie riscaldata.

I forni CVD sono tipicamente costituiti da una camera a vuoto, un sistema di erogazione del gas, un sistema di riscaldamento e un portasubstrato. La camera a vuoto viene utilizzata per rimuovere aria e altri gas dall'ambiente di deposizione per evitare che le impurità interferiscano con il processo di deposizione. Il sistema di erogazione del gas trasporta i gas precursori sulla superficie del substrato dove reagiscono per formare il film sottile desiderato. Il sistema di riscaldamento riscalda il substrato alla temperatura richiesta affinché avvenga la reazione. Il supporto del substrato viene utilizzato per mantenere il substrato in posizione durante il processo di deposizione.

Nel processo CVD, i gas precursori vengono introdotti nella camera a vuoto e riscaldati a una temperatura in cui si decompongono e reagiscono per formare una pellicola sottile sul substrato riscaldato. La temperatura e la pressione dell'ambiente di deposizione sono attentamente controllate per garantire il raggiungimento delle proprietà del film desiderate.

I forni CVD sono ampiamente utilizzati nell'industria dei semiconduttori per depositare film sottili per la fabbricazione di dispositivi microelettronici, come circuiti integrati e celle solari. Sono anche utilizzati nella produzione di materiali avanzati, come rivestimenti, fibre ottiche e superconduttori.