Cina Forno CVD Produttori, Fornitori, Fabbrica

Forni CVD utilizzati per il processo di deposizione chimica da fase vapore (CVD). La deposizione chimica da fase vapore è un processo in cui una pellicola sottile viene depositata su un substrato utilizzando una reazione chimica tra gas precursori vaporizzati e una superficie riscaldata.

I forni CVD sono generalmente costituiti da una camera a vuoto, un sistema di erogazione del gas, un sistema di riscaldamento e un supporto per il substrato. La camera a vuoto viene utilizzata per rimuovere l'aria e altri gas dall'ambiente di deposizione per evitare che le impurità interferiscano con il processo di deposizione. Il sistema di erogazione del gas eroga i gas precursori sulla superficie del substrato dove reagiscono per formare la pellicola sottile desiderata. Il sistema di riscaldamento riscalda il substrato alla temperatura richiesta affinché avvenga la reazione. Il supporto del substrato viene utilizzato per mantenere il substrato in posizione durante il processo di deposizione.

Nel processo CVD, i gas precursori vengono introdotti nella camera a vuoto e riscaldati a una temperatura alla quale si decompongono e reagiscono per formare una pellicola sottile sul substrato riscaldato. La temperatura e la pressione dell'ambiente di deposizione sono attentamente controllate per garantire il raggiungimento delle proprietà della pellicola desiderate.

I forni CVD sono ampiamente utilizzati nell'industria dei semiconduttori per depositare film sottili per la fabbricazione di dispositivi microelettronici, come circuiti integrati e celle solari. Vengono utilizzati anche nella produzione di materiali avanzati, come rivestimenti, fibre ottiche e superconduttori.