Cina Grafite speciale Produttori, Fornitori, Fabbrica

La grafite speciale è una sorta di grafite artificiale che viene elaborata. È un materiale importante che è indispensabile in tutti gli aspetti del processo di produzione di semiconduttori e fotovoltaici, tra cui crescita cristallina, impianto ionico, epitassia, ecc.

1. Crescita cristallina in carburo di silicio (SIC)

Il carburo di silicio, come materiale semiconduttore di terza generazione, è ampiamente utilizzato in nuovi veicoli energetici, comunicazioni 5G e altri campi. Nel processo di crescita del cristallo SIC da 6 pollici e da 8 pollici, la grafite isostatica viene utilizzata principalmente per produrre i seguenti componenti chiave:

Crucibile di grafite: questo può essere usato per sintetizzare la materia prima della polvere SIC e aiutare anche nella crescita dei cristalli ad alte temperature. La sua elevata purezza, resistenza ad alta temperatura e resistenza agli shock termici garantiscono un ambiente di crescita cristallino stabile.

Riscaldatore di grafite: questo fornisce una distribuzione uniforme del calore, garantendo una crescita dei cristalli SIC di alta qualità.

Tubo di isolamento: ciò mantiene l'uniformità della temperatura all'interno del forno di crescita del cristallo e riduce la perdita di calore.

2. Impianto ionico

L'impianto ionico è un processo chiave nella produzione di semiconduttori. La grafite isostatica viene utilizzata principalmente per produrre i seguenti componenti negli impianti di ioni:

Grafite Getter: questo assorbe ioni impurità nel raggio ionico, garantendo la purezza ionica.

Anello di messa a fuoco della grafite: questo focalizza il raggio ionico, migliorando l'accuratezza e l'efficienza dell'impianto di ioni. Vassoi di substrato di grafite: utilizzato per supportare i wafer di silicio e mantenere stabilità e coerenza durante l'impianto di ioni.

3. Processo di epitassia

Il processo di epitassia è un passo fondamentale nella produzione di dispositivi a semiconduttore. La grafite pressata isostaticamente viene utilizzata principalmente per produrre i seguenti componenti nei forni epitassia:

Paesaggi e suscettori di grafite: utilizzati per supportare wafer di silicio, fornendo supporto stabile e conduzione di calore uniforme durante il processo di epitassia.

4. Altre applicazioni di produzione di semiconduttori

Anche la grafite pressata isostaticamente è ampiamente utilizzata nelle seguenti applicazioni di produzione di semiconduttori:

Processo di incisione: utilizzato per produrre elettrodi di grafite e componenti protettivi per gli incisioni. La sua resistenza alla corrosione e elevata purezza garantiscono stabilità e precisione nel processo di attacco.

Deposizione di vapore chimico (CVD): utilizzato per produrre vassoi di grafite e riscaldatori all'interno di forni CVD. La sua alta conduttività termica e resistenza ad alta temperatura garantiscono una deposizione uniforme del film sottile.

Test dell'imballaggio: utilizzato per produrre apparecchi di test e vassoi di vettori. La sua alta precisione e bassa contaminazione garantiscono risultati di test accurati.

Vantaggi delle parti di grafite

Elevata purezza:

Utilizzando materiale di grafite isostaticamente premuto con contenuti estremamente bassi, soddisfa i rigorosi requisiti di purezza del materiale della produzione di semiconduttori. Il forno di purificazione dell'azienda può purificare la grafite al di sotto delle 5 ppm.

Alta precisione:

Con l'attrezzatura di elaborazione avanzata e la tecnologia di elaborazione matura, garantisce che l'accuratezza dimensionale del prodotto e le tolleranze di forma e posizione raggiungano il livello di micron.

Performance elevate:

Il prodotto ha un'eccellente resistenza ad alta temperatura, resistenza alla corrosione, resistenza alle radiazioni, conducibilità termica elevata e altre proprietà, soddisfacendo le varie dure condizioni di lavoro della produzione di semiconduttori.

Servizio personalizzato:

I servizi di progettazione e elaborazione personalizzati possono essere forniti in base alle esigenze dei clienti per soddisfare le esigenze di diversi scenari di applicazione.

Tipi di prodotti di grafite

(1) Grafite isostatica
I prodotti di grafite isostatici sono prodotti dalla pressione isostatica fredda. Rispetto ad altri metodi di formazione, i crogioli prodotti da questo processo hanno un'eccellente stabilità. I prodotti di grafite necessari per i singoli cristalli SIC sono tutti di dimensioni grandi, il che porterà a purezza irregolare in superficie e all'interno dei prodotti di grafite, che non possono soddisfare i requisiti di utilizzo. Al fine di soddisfare i requisiti di purificazione profonda dei prodotti di grafite di grandi dimensioni richiesti per i singoli cristalli SIC, è necessario adottare un unico processo di purificazione dell'impulso termochimico ad alta temperatura per ottenere la purificazione profonda e uniforme di prodotti di grafite a forma di grandi dimensioni o di forma speciale, in modo che la purezza della superficie del prodotto e il core possano soddisfare i requisiti di utilizzo.

(2) Grafite porosa
La grafite porosa è un tipo di grafite con alta porosità e bassa densità. Nel processo di crescita dei cristalli SIC, la grafite porosa svolge un ruolo significativo nel migliorare l'uniformità del trasferimento di massa, riducendo il tasso di occorrenza del cambiamento di fase e migliorando la forma del cristallo.
L'uso di grafite porosa migliora la temperatura e l'uniformità della temperatura dell'area delle materie prime, aumenta la differenza di temperatura assiale nel crogiolo e ha anche un certo effetto sull'indebolimento della ricristallizzazione della superficie delle materie prime; Nella camera di crescita, la grafite porosa migliora la stabilità del flusso di materiale durante il processo di crescita, aumenta il rapporto C/SI dell'area di crescita, aiuta a ridurre la probabilità di cambiamento di fase e, allo stesso tempo, la grafite porosa svolge anche un ruolo nel miglioramento dell'interfaccia cristallina.

(3) sentito
Il feltro morbido e duro sono stati entrambi il ruolo di importanti materiali di isolamento termico nella crescita dei cristalli SIC e nei collegamenti epitassiali.

(4) foglio di grafite
La carta di grafite è un materiale funzionale realizzato con grafite a fiocchi ad alto contenuto di carbonio attraverso il trattamento chimico e il rotolamento ad alta temperatura. Ha un'elevata conduttività termica, conducibilità elettrica, flessibilità e resistenza alla corrosione.

(5) Materiali compositi
Il campo termico carbonio-carbonio è uno dei materiali di consumo core nella produzione di fornaci a singolo cristallo fotovoltaico.

Produzione di Semicorex

Semicorex crea grafite con metodi di produzione personalizzati e piccoli. La produzione di piccoli battiti rende i prodotti più controllabili. L'intero processo è controllato da controller logici programmabili (PLC), sono stati registrati i dati dettagliati del processo, consentendo la tracciabilità completa del ciclo di vita.

Durante l'intero processo di torrefazione, la consistenza raggiunta nella resistività in diverse posizioni e il controllo della temperatura stretto è mantenuto. Ciò garantisce l'omogeneità e l'affidabilità dei materiali di grafite.

Semicorex utilizza una tecnologia di pressione completamente isostatica, che è diversa dagli altri fornitori; Significa che la grafite è ultra uniforme stessa ed è dimostrata particolarmente importante nei processi epitassiali. Sono stati condotti test completi dell'uniformità del materiale, tra cui densità, resistività, durezza, forza di flessione e resistenza attraverso diversi campioni.