I suscettori cilindrici sono un componente critico utilizzato in vari processi di produzione di semiconduttori, come LPE e MOCVD. Semicorex applica carburo di silicio di elevata purezza in strati sottili sulla grafite utilizzando il processo di deposizione chimica in fase vapore (CVD), che rende il materiale semiconduttore con eccellente stabilità termica, resistenza chimica e resistenza all'usura, rendendolo ideale per l'uso in ambienti ad alta processi di temperatura.
● Grafite rivestita in SiC ad elevata purezza
● Resistenza al calore e resistenza chimica superiori
● Elevata uniformità termica
● Eccellente resistenza all'usura
Il semicorex CVD SiC Coated Barrel Susceptor è un componente meticolosamente progettato su misura per processi avanzati di produzione di semiconduttori, in particolare l'epitassia. I nostri prodotti hanno un buon vantaggio di prezzo e coprono la maggior parte dei mercati europei e americani. Non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.
Per saperne di piùInvia richiestaLa grafite rivestita in carburo di silicio del suscettore del cilindro Semicorex è un componente specializzato progettato per l'uso nel processo di epitassia, in particolare nel trasporto di wafer. Contattaci oggi per saperne di più su come possiamo aiutarti con le tue esigenze di elaborazione di wafer semiconduttori.
Per saperne di piùInvia richiestaIl suscettore cilindrico rivestito in SiC Semicorex per la crescita epitassiale LPE è un prodotto ad alte prestazioni progettato per fornire prestazioni costanti e affidabili per un periodo prolungato. Il suo profilo termico uniforme, il modello di flusso del gas laminare e la prevenzione della contaminazione lo rendono la scelta ideale per la crescita di strati epitassiali di alta qualità su chip wafer. La sua personalizzazione e la sua convenienza lo rendono un prodotto altamente competitivo sul mercato.
Per saperne di piùInvia richiestaSemicorex Barrel Susceptor Epi System è un prodotto di alta qualità che offre un'adesione superiore del rivestimento, elevata purezza e resistenza all'ossidazione alle alte temperature. Il suo profilo termico uniforme, il modello di flusso di gas laminare e la prevenzione della contaminazione lo rendono la scelta ideale per la crescita degli strati epissiali sui chip wafer. La sua convenienza e la possibilità di personalizzazione lo rendono un prodotto altamente competitivo sul mercato.
Per saperne di piùInvia richiestaIl sistema reattore Semicorex per epitassia in fase liquida (LPE) è un prodotto innovativo che offre eccellenti prestazioni termiche, un profilo termico uniforme e un'adesione superiore del rivestimento. La sua elevata purezza, resistenza all'ossidazione ad alta temperatura e resistenza alla corrosione lo rendono la scelta ideale per l'uso nell'industria dei semiconduttori. Le sue opzioni personalizzabili e il rapporto costo-efficacia lo rendono un prodotto altamente competitivo sul mercato.
Per saperne di piùInvia richiestaSemicorex CVD Deposition In Barrel Reactor è un prodotto altamente durevole e affidabile per la crescita di strati epissiali su chip wafer. La sua resistenza all'ossidazione alle alte temperature e l'elevata purezza lo rendono adatto all'uso nell'industria dei semiconduttori. Il suo profilo termico uniforme, il modello di flusso laminare del gas e la prevenzione della contaminazione lo rendono la scelta ideale per la crescita dello strato epissiale di alta qualità.
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