I suscettori a botte sono un componente critico utilizzato in vari processi di produzione di semiconduttori, come LPE, MOCVD. Semicorex applica carburo di silicio di elevata purezza in strati sottili sulla grafite utilizzando il processo di deposizione chimica da vapore (CVD), che rende il materiale semiconduttore con eccellente stabilità termica, resistenza chimica e resistenza all'usura, rendendoli ideali per l'uso in alta- processi di temperatura.
â Grafite rivestita di SiC di elevata purezza
â Superiore resistenza al calore e resistenza chimica
â Elevata uniformità termica
â Eccellente resistenza all'usura
Il semicorex CVD SiC Coated Barrel Susceptor è un componente meticolosamente progettato su misura per i processi di produzione avanzati di semiconduttori, in particolare l'epitassia. I nostri prodotti hanno un buon vantaggio di prezzo e coprono la maggior parte dei mercati europei e americani. Non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.
Per saperne di piùInvia richiestaLa grafite rivestita in carburo di silicio del suscettore del cilindro Semicorex è un componente specializzato progettato per l'uso nel processo di epitassia, in particolare nel trasporto di wafer. Contattaci oggi per saperne di più su come possiamo aiutarti con le tue esigenze di elaborazione di wafer semiconduttori.
Per saperne di piùInvia richiestaSemicorex SiC Coated Barrel Susceptor for LPE Epitaaxial Growth è un prodotto ad alte prestazioni progettato per fornire prestazioni costanti e affidabili per un periodo prolungato. Il suo profilo termico uniforme, il modello di flusso laminare del gas e la prevenzione della contaminazione ne fanno una scelta ideale per la crescita di strati epitassiali di alta qualità su chip di wafer. La sua personalizzazione ed economicità ne fanno un prodotto altamente competitivo sul mercato.
Per saperne di piùInvia richiestaSemicorex Barrel Susceptor Epi System per LPE L'epitassia è un prodotto di alta qualità che offre un'adesione del rivestimento superiore, elevata purezza e resistenza all'ossidazione ad alta temperatura. Il suo profilo termico uniforme, il modello di flusso laminare del gas e la prevenzione della contaminazione lo rendono una scelta ideale per la crescita degli strati epissiali sui chip di wafer. La sua economicità e personalizzazione lo rendono un prodotto altamente competitivo sul mercato.
Per saperne di piùInvia richiestaSemicorex Liquid Phase Epitaxy (LPE) Reactor System è un prodotto innovativo che offre eccellenti prestazioni termiche, profilo termico uniforme e adesione del rivestimento superiore. La sua elevata purezza, la resistenza all'ossidazione ad alta temperatura e la resistenza alla corrosione ne fanno una scelta ideale per l'uso nell'industria dei semiconduttori. Le sue opzioni personalizzabili e l'economicità lo rendono un prodotto altamente competitivo sul mercato.
Per saperne di piùInvia richiestaSemicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor è un prodotto altamente durevole e affidabile per la crescita di strati epissiali su chip di wafer. La sua resistenza all'ossidazione ad alta temperatura e l'elevata purezza lo rendono adatto all'uso nell'industria dei semiconduttori. Il suo profilo termico uniforme, il modello di flusso laminare del gas e la prevenzione della contaminazione lo rendono la scelta ideale per la crescita dello strato epissiale di alta qualità.
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