Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor è un prodotto altamente durevole e affidabile per la crescita di strati epissiali su chip di wafer. La sua resistenza all'ossidazione ad alta temperatura e l'elevata purezza lo rendono adatto all'uso nell'industria dei semiconduttori. Il suo profilo termico uniforme, il modello di flusso laminare del gas e la prevenzione della contaminazione lo rendono la scelta ideale per la crescita dello strato epissiale di alta qualità.
Il nostro CVD Epitaaxial Deposition In Barrel Reactor è un prodotto ad alte prestazioni progettato per fornire prestazioni affidabili in ambienti estremi. La sua superiore adesione del rivestimento, la resistenza all'ossidazione ad alta temperatura e la resistenza alla corrosione lo rendono una scelta eccellente per l'uso in ambienti difficili. Inoltre, il suo profilo termico uniforme, il modello di flusso laminare del gas e la prevenzione della contaminazione garantiscono l'elevata qualità dello strato epissiale.
In Semicorex, ci concentriamo sulla fornitura di prodotti di alta qualità e convenienti ai nostri clienti. Il nostro CVD Epitaaxial Deposition In Barrel Reactor ha un prezzo vantaggioso e viene esportato in molti mercati europei e americani. Miriamo a essere il vostro partner a lungo termine, offrendo prodotti di qualità costante e un servizio clienti eccezionale.
Parametri della deposizione epitassiale CVD nel reattore a botte
Principali caratteristiche del rivestimento CVD-SIC |
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Proprietà SiC-CVD |
||
Struttura di cristallo |
FCC fase β |
|
Densità |
g/cm³ |
3.21 |
Durezza |
Durezza Vickers |
2500 |
Granulometria |
μm |
2~10 |
Purezza chimica |
% |
99.99995 |
Capacità termica |
J·kg-1 ·K-1 |
640 |
Temperatura di sublimazione |
℃ |
2700 |
Resistenza alla flessione |
MPa (RT 4 punti) |
415 |
Modulo di Young |
Gpa (curva 4pt, 1300℃) |
430 |
Espansione termica (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
Conduttività termica |
(W/mK) |
300 |
Caratteristiche della deposizione epitassiale CVD nel reattore a botte
- Sia il substrato di grafite che lo strato di carburo di silicio hanno una buona densità e possono svolgere un buon ruolo protettivo in ambienti di lavoro ad alta temperatura e corrosivi.
- Il suscettore rivestito di carburo di silicio utilizzato per la crescita di un singolo cristallo ha una planarità superficiale molto elevata.
- Ridurre la differenza del coefficiente di espansione termica tra il substrato di grafite e lo strato di carburo di silicio, migliorare efficacemente la forza di adesione per prevenire fessurazioni e delaminazione.
- Sia il substrato di grafite che lo strato di carburo di silicio hanno un'elevata conduttività termica ed eccellenti proprietà di distribuzione del calore.
- Alto punto di fusione, resistenza all'ossidazione ad alta temperatura, resistenza alla corrosione.