Un soffione doccia SiC (carburo di silicio) è un componente specializzato utilizzato in vari processi industriali, in particolare nel settore della produzione di semiconduttori. È progettato per distribuire e fornire gas di processo in modo uniforme e preciso durante i processi di deposizione chimica in fase vapore (CVD) e di crescita epitassiale.
Il soffione ha la forma di un disco o di un piatto con più fori o ugelli distribuiti uniformemente sulla sua superficie. Questi fori fungono da uscite per i gas di processo, consentendo loro di essere iniettati nella camera di processo o nella camera di reazione. La dimensione, la forma e la distribuzione dei fori possono variare a seconda dell'applicazione specifica e dei requisiti del processo.
Uno dei principali vantaggi dell'utilizzo di un soffione SiC è la sua eccellente conduttività termica. Questa proprietà consente un efficiente trasferimento di calore e una distribuzione uniforme della temperatura sulla superficie del soffione, prevenendo punti caldi e garantendo condizioni di processo coerenti. La migliore conduttività termica consente inoltre un rapido raffreddamento del soffione dopo il processo, riducendo al minimo i tempi di inattività e aumentando la produttività complessiva.
I soffioni SiC sono estremamente durevoli e resistenti all'usura, anche in caso di esposizione prolungata a gas corrosivi e temperature elevate. Questa longevità si traduce in intervalli di manutenzione prolungati e tempi di inattività ridotti delle apparecchiature, con conseguenti risparmi sui costi e maggiore affidabilità del processo.
Oltre alla robustezza, i soffioni SiC offrono eccellenti capacità di distribuzione del gas. I modelli e le configurazioni dei fori progettati con precisione garantiscono un flusso e una distribuzione uniformi del gas sulla superficie del substrato, favorendo una deposizione uniforme della pellicola e prestazioni migliorate del dispositivo. La distribuzione uniforme del gas aiuta inoltre a ridurre al minimo le variazioni nello spessore del film, nella composizione e in altri parametri critici, contribuendo a migliorare il controllo del processo e la resa.
Semicorex offre un soffione doccia con semiconduttore in carburo di silicio sinterizzato a bassa resistività. Abbiamo la capacità di progettare su misura e fornire materiali ceramici avanzati utilizzando una varietà di capacità uniche.
Il soffione metallico, noto come piastra di distribuzione del gas o soffione per gas, è un componente critico ampiamente utilizzato nei processi di produzione di semiconduttori. La sua funzione primaria è quella di distribuire uniformemente i gas in una camera di reazione, garantendo che i materiali semiconduttori entrino in contatto uniforme con il processo gas.**
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