Gli anelli di semirex bordo sono affidabili dai principali FAB e OEM di semiconduttore in tutto il mondo. Con un controllo di qualità rigoroso, processi di produzione avanzati e progettazione basata sull'applicazione, Semicorex fornisce soluzioni che prolungano la durata dello strumento, ottimizzano l'uniformità del wafer e supportano i nodi di processo avanzati.*
Per saperne di piùInvia richiestaLe piastre di distribuzione di gas Semicorex, realizzate in CVD SIC sono un componente critico nei sistemi di incisione al plasma, progettate per garantire una dispersione di gas uniforme e prestazioni al plasma coerenti attraverso il wafer. Semicorex è la scelta affidabile per soluzioni in ceramica ad alte prestazioni, offrendo purezza di materiale senza pari, precisione ingegneristica e supporto affidabile su misura per le esigenze della produzione avanzata di semiconduttori.*
Per saperne di piùInvia richiestaIl soffione doccia Solid SiC è un componente cruciale nella produzione di semiconduttori, progettato specificamente per i processi di deposizione chimica da fase vapore (CVD). Semicorex, leader nella tecnologia dei materiali avanzati, offre soffioni doccia Solid SiC che garantiscono una distribuzione superiore dei gas precursori sulle superfici del substrato. Questa precisione è vitale per ottenere risultati di elaborazione uniformi e di alta qualità.**
Per saperne di piùInvia richiestaAttraverso un processo di deposizione chimica da fase vapore (CVD), l'anello di messa a fuoco SiC Semicorex CVD viene meticolosamente depositato e lavorato meccanicamente per ottenere il prodotto finale. Grazie alle proprietà superiori del materiale, è indispensabile negli ambienti esigenti della moderna fabbricazione di semiconduttori.**
Per saperne di piùInvia richiestaL'anello di incisione in CVD SiC è un componente essenziale nel processo di produzione dei semiconduttori, offrendo prestazioni eccezionali negli ambienti di incisione al plasma. Grazie alla sua durezza superiore, resistenza chimica, stabilità termica ed elevata purezza, CVD SiC garantisce che il processo di incisione sia preciso, efficiente e affidabile. Scegliendo gli anelli di incisione SiC CVD Semicorex, i produttori di semiconduttori possono aumentare la longevità delle loro apparecchiature, ridurre i tempi di inattività e migliorare la qualità complessiva dei loro prodotti.*
Per saperne di piùInvia richiestaIl soffione doccia Semicorex CVD SiC è un componente principale utilizzato nelle apparecchiature di incisione dei semiconduttori, che funge sia da elettrodo che da condotto per i gas di incisione. Scegli Semicorex per il controllo superiore dei materiali, la tecnologia di elaborazione avanzata e le prestazioni affidabili e di lunga durata nelle applicazioni più impegnative dei semiconduttori.*
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