L'anello SiC Bulk Semicorex è un componente cruciale nei processi di incisione dei semiconduttori, progettato specificamente per l'uso come anello di incisione all'interno di apparecchiature avanzate per la produzione di semiconduttori. Con il nostro costante impegno nel fornire prodotti della massima qualità a prezzi competitivi, siamo pronti a diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.*
Per saperne di piùInvia richiestaIl soffione doccia in carburo di silicio Semicorex CVD è un componente essenziale e altamente specializzato nel processo di incisione dei semiconduttori, in particolare nella produzione di circuiti integrati. Con il nostro costante impegno nel fornire prodotti della massima qualità a prezzi competitivi, siamo pronti a diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.*
Per saperne di piùInvia richiestaIl soffione doccia Semicorex CVD SiC è un componente essenziale nei moderni processi CVD per ottenere film sottili uniformi e di alta qualità con efficienza e produttività migliorate. Il controllo superiore del flusso di gas del soffione CVD SiC, il contributo alla qualità della pellicola e la lunga durata lo rendono indispensabile per le applicazioni esigenti di produzione di semiconduttori.**
Per saperne di piùInvia richiestaL'anello di messa a fuoco in carburo di silicio solido Semicorex è un componente fondamentale nella produzione di semiconduttori, posizionato strategicamente all'esterno del wafer per mantenere il contatto diretto. Utilizzando una tensione applicata, questo anello focalizza il plasma che lo attraversa, migliorando così l'uniformità del processo sul wafer. Costruito esclusivamente con carburo di silicio a deposizione chimica in fase vapore (CVD SiC), questo anello di messa a fuoco incarna le qualità eccezionali richieste dall'industria dei semiconduttori. Noi di Semicorex ci dedichiamo alla produzione e alla fornitura di anelli di messa a fuoco in carburo di silicio solido ad alte prestazioni che fondono la qualità con l'efficienza dei costi.
Per saperne di piùInvia richiestaIl soffione doccia Semicorex SiC è un componente essenziale nel processo di crescita epitassiale, progettato specificamente per migliorare l'uniformità e l'efficienza della deposizione di film sottile sui wafer semiconduttori. Semicorex si impegna a fornire prodotti di qualità a prezzi competitivi, non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.
Per saperne di piùInvia richiestaIl soffione doccia Semicorex CVD con rivestimento SiC rappresenta un componente avanzato progettato per la precisione nelle applicazioni industriali, in particolare nei regni della deposizione chimica da vapore (CVD) e della deposizione chimica da vapore potenziata dal plasma (PECVD). Fungendo da condotto fondamentale per l'erogazione di gas precursori o specie reattive, questo soffione doccia CVD specializzato con rivestimento SiC facilita la deposizione precisa dei materiali sulla superficie di un substrato, parte integrante di questi sofisticati processi di produzione.
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