Anelli SiC CVD solidi

​Semicorex solidoCVD SiCgli anelli sono comunemente montati all'interno delle camere di reazione delle apparecchiature di incisione, circondando i mandrini elettrostatici per fungere da barriera di processo e guida di energia. Possono concentrare il plasma all'interno della camera attorno al wafer e impedire la diffusione del plasma verso l'esterno, fornendo così un campo energetico adatto per il processo di incisione preciso. Questo campo energetico uniforme e stabile può mitigare efficacemente rischi quali difetti del wafer, deriva del processo e perdita di rendimento del dispositivo a semiconduttore causata da una distribuzione non uniforme dell'energia e dalla distorsione del plasma sul bordo del wafer.

Eccellenti vantaggi materiali

Gli anelli SiC CVD solidi Semicorex sono realizzati in SiC CVD di elevata purezza, offrendo eccellenti vantaggi materiali per soddisfare pienamente i severi requisiti di elevata pulizia ed elevata resistenza alla corrosione negli ambienti di attacco dei semiconduttori.

1. Elevata purezza

La purezza degli anelli SiC CVD solidi Semicorex può superare il 99,9999%, il che significa che gli anelli sono quasi privi di impurità interne. Questa eccezionale purezza del materiale evita notevolmente la contaminazione indesiderata dei wafer semiconduttori e delle camere di processo dovuta al rilascio di impurità durante i processi di attacco dei semiconduttori.

2. Elevata resistenza alla corrosione

Semicorexanelli SiC CVD solidipossono mantenere l'integrità strutturale e la stabilità delle prestazioni anche quando sono esposti ad acidi forti, alcali e plasma grazie alla superiore resistenza alla corrosione del SiC CVD, che li rende le soluzioni ideali per ambienti di processo di incisione difficili.

3. Prestazioni affidabili di gestione termica

CVD SiC presenta un'elevata conduttività termica e un coefficiente di espansione termica minimo, consentendo agli anelli solidi CVD SiC Semicorex di ottenere una rapida dissipazione del calore e mantenere un'eccellente stabilità dimensionale durante il funzionamento.

4. Eccezionale uniformità di resistenza

Gli anelli solidi CVD SiC Semicorex offrono un'uniformità di resistenza eccezionale con RRG < 5%.

Intervalli di resistività: bassa risoluzione. (<0,02 Ω·cm), risoluzione media. (0,2–25 Ω·cm), alta risoluzione. (>100 Ω·cm).

Controllo di qualità preciso

Gli anelli SiC CVD solidi Semicorex vengono lavorati e ispezionati secondo standard rigorosi per soddisfare pienamente i severi requisiti di precisione e qualità dei settori dei semiconduttori e della microelettronica.

Trattamento superficiale: la precisione di lucidatura è Ra < 0,1 µm; la precisione della macinazione fine è Ra > 0,1 µm

La precisione di lavorazione è controllata entro ≤ 0,03 mm

Ispezione di qualità: gli anelli SiC CVD solidi Semicorex saranno sottoposti a misurazione dimensionale, test di resistività e ispezione visiva per garantire che il prodotto sia privo di scheggiature, graffi, crepe, macchie e altri difetti.