Soffione doccia in grafite rivestito in SiC CVD

In un apparecchio al plasma per l'attacco e la deposizione chimica in fase vapore (CVD) di materiali su wafer, i gas di processo vengono immessi in una camera di processo attraverso una doccia in grafite rivestita in SiC CVD. Semicorex si impegna a fornire prodotti di qualità a prezzi competitivi, non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.

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Descrizione del prodotto

Il soffione doccia in grafite rivestito Semicorex CVD SiC (Chemical Vapour Deposition Silicon Carbide) è un componente specializzato utilizzato in vari processi industriali, come la deposizione chimica da vapore (CVD) e la deposizione chimica da vapore potenziata dal plasma (PECVD). Svolge un ruolo cruciale nel fornire gas precursori o specie reattive sulla superficie di un substrato durante questi processi di deposizione.

Il soffione doccia in grafite rivestito in SiC CVD è realizzato in grafite ad elevata purezza e rivestito con uno strato sottile di SiC mediante metodo CVD. Il soffione doccia in grafite rivestito CVD SiC combina le proprietà benefiche della grafite e del SiC, rendendolo un componente essenziale in vari processi di deposizione in cui è richiesta una distribuzione precisa e uniforme del gas, insieme alla resistenza alle alte temperature e agli ambienti chimici.

Caratteristiche:

Resistenza chimica

Stabilità termica

Superficie liscia e uniforme

Contaminazione ridotta