Soffione doccia in grafite con rivestimento CVD SiC

In un apparecchio al plasma per l'incisione e la deposizione chimica da vapore (CVD) di materiali su wafer, i gas di processo vengono forniti in una camera di processo attraverso un soffione doccia in grafite rivestito di SiC CVD. Semicorex si impegna a fornire prodotti di qualità a prezzi competitivi, non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.

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Descrizione del prodotto

Il soffione doccia Semicorex CVD SiC (Chemical Vapour Deposition Silicon Carbide) rivestito in grafite è un componente specializzato utilizzato in vari processi industriali, come la deposizione chimica da vapore (CVD) e la deposizione chimica da vapore potenziata dal plasma (PECVD). Svolge un ruolo cruciale nel fornire gas precursori o specie reattive sulla superficie di un substrato durante questi processi di deposizione.

Il soffione doccia in grafite con rivestimento CVD SiC è realizzato in grafite ad alta purezza e rivestito con uno strato sottile di SiC mediante metodo CVD. Il soffione doccia in grafite con rivestimento CVD SiC combina le proprietà benefiche della grafite e del SiC, rendendolo un componente essenziale in vari processi di deposizione in cui è richiesta una distribuzione del gas precisa e uniforme, insieme alla resistenza alle alte temperature e agli ambienti chimici.

Caratteristiche:

Resistenza chimica

Stabilità termica

Superficie liscia e uniforme

Contaminazione ridotta