Soffione doccia CVD-SiC

Il soffione doccia Semicorex CVD-SiC offre durata, eccellente gestione termica e resistenza alla degradazione chimica, rendendolo una scelta adatta per i processi CVD impegnativi nell'industria dei semiconduttori. Semicorex si impegna a fornire prodotti di qualità a prezzi competitivi, non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.

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Descrizione del prodotto

Nel contesto di un soffione CVD, un soffione CVD-SiC è tipicamente progettato per distribuire uniformemente i gas precursori sulla superficie del substrato durante il processo CVD. Il soffione è solitamente posizionato sopra il substrato e i gas precursori fluiscono attraverso piccoli fori o ugelli sulla sua superficie.

Il materiale CVD-SiC utilizzato nel soffione offre numerosi vantaggi. La sua elevata conducibilità termica aiuta a dissipare il calore generato durante il processo CVD, garantendo una distribuzione uniforme della temperatura attraverso il substrato. Inoltre, la stabilità chimica del SiC gli consente di resistere a gas corrosivi e ambienti difficili che si incontrano comunemente nei processi CVD.

Il design di un soffione doccia CVD-SiC può variare a seconda dello specifico sistema CVD e dei requisiti di processo. Tuttavia, in genere è costituito da una piastra o da un componente a forma di disco con una serie di fori o fessure praticati con precisione. Il modello e la geometria dei fori sono accuratamente progettati per garantire una distribuzione uniforme del gas e velocità di flusso su tutta la superficie del substrato.