Suscettore SiC per attacco ICP

Il susceptor Semicorex SiC per ICP Etch è prodotto con l'obiettivo di mantenere elevati standard di qualità e coerenza. I robusti processi di produzione utilizzati per creare questi suscettori garantiscono che ogni lotto soddisfi criteri prestazionali rigorosi, fornendo risultati affidabili e coerenti nell'incisione dei semiconduttori. Inoltre, Semicorex è attrezzata per offrire programmi di consegna rapidi, il che è fondamentale per tenere il passo con le rapide richieste di turnaround dell'industria dei semiconduttori, garantendo che i tempi di produzione siano rispettati senza compromettere la qualità. Noi di Semicorex ci dedichiamo alla produzione e alla fornitura di prodotti ad alte prestazioni Suscettore SiC per ICP Etch che fonde la qualità con l'efficienza in termini di costi.**

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Descrizione del prodotto

Il susceptor Semicorex SiC per ICP Etch è rinomato per la sua eccellente conduttività termica, che consente una distribuzione rapida e uniforme del calore su tutta la superficie. Questa caratteristica è fondamentale per mantenere una temperatura costante durante il processo di incisione, garantendo un'elevata precisione nel trasferimento del modello. Inoltre, il basso coefficiente di espansione termica del SiC riduce al minimo le variazioni dimensionali al variare della temperatura, mantenendo così l’integrità strutturale e supportando una rimozione del materiale precisa e uniforme.

Una delle proprietà più straordinarie dei SiC Susceptor per ICP Etch è la loro resistenza all'impatto del plasma. Questa resistenza garantisce che il suscettore non si degradi o non si eroda nelle dure condizioni del bombardamento al plasma, che è comune in questi processi di attacco. Questa durabilità migliora l'affidabilità del processo di incisione e contribuisce alla produzione di modelli di incisione puliti e ben definiti con difettosità minima.

Il susceptor SiC per ICP Etch è intrinsecamente resistente alla corrosione da parte di acidi e alcali forti, che è una proprietà essenziale per i materiali utilizzati negli ambienti di attacco ICP. Questa resistenza chimica garantisce che i suscettori SiC per ICP Etch mantengano le loro proprietà fisiche e meccaniche nel tempo, anche se esposti a reagenti chimici aggressivi. Questa durabilità riduce la necessità di frequenti sostituzioni e manutenzioni, riducendo così i costi operativi e aumentando i tempi di attività degli impianti di fabbricazione dei semiconduttori.

Il susceptor Semicorex SiC per ICP Etch può essere progettato con precisione per soddisfare requisiti dimensionali specifici, che è un fattore critico nella produzione di semiconduttori dove è spesso necessaria la personalizzazione per soddisfare varie dimensioni di wafer e specifiche di lavorazione. Questa adattabilità consente una migliore integrazione con le apparecchiature e le linee di processo esistenti, ottimizzando l'efficienza e l'efficacia complessive del processo di incisione.