Cerchi un porta wafer affidabile per i processi di incisione? Non guardare oltre il supporto per incisione ICP in carburo di silicio di Semicorex. Il nostro prodotto è progettato per resistere alle alte temperature e alla pulizia chimica dura, garantendo durata e longevità. Con una superficie pulita e liscia, il nostro supporto è perfetto per maneggiare wafer incontaminati.
Garantisci modelli di flusso di gas laminare ottimali e uniformità del profilo termico con il supporto per incisione ICP in carburo di silicio di Semicorex. Il nostro prodotto è progettato per ottenere i migliori risultati possibili per i processi di deposizione di film sottili e manipolazione dei wafer. Con una resistenza superiore al calore e alla corrosione, il nostro vettore è la scelta perfetta per le applicazioni più impegnative.
In Semicorex, ci concentriamo sulla fornitura di prodotti di alta qualità e convenienti ai nostri clienti. Il nostro vettore per incisione ICP in carburo di silicio ha un prezzo vantaggioso ed è esportato in molti mercati europei e americani. Miriamo a essere il vostro partner a lungo termine, offrendo prodotti di qualità costante e un servizio clienti eccezionale.
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Parametri del supporto per incisione ICP in carburo di silicio
Principali specifiche del rivestimento CVD-SIC |
||
Proprietà SiC-CVD |
||
Struttura di cristallo |
FCC fase β |
|
Densità |
g/cm³ |
3.21 |
Durezza |
Durezza Vickers |
2500 |
Granulometria |
μm |
2~10 |
Purezza chimica |
% |
99.99995 |
Capacità termica |
J·kg-1 ·K-1 |
640 |
Temperatura di sublimazione |
℃ |
2700 |
Resistenza alla flessione |
MPa (RT 4 punti) |
415 |
Modulo di Young |
Gpa (curva 4pt, 1300℃) |
430 |
Espansione termica (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
Conduttività termica |
(W/mK) |
300 |
Caratteristiche del supporto per incisione ICP in carburo di silicio
- Evitare di staccarsi e garantire il rivestimento su tutta la superficie
Resistenza all'ossidazione ad alta temperatura: Stabile ad alte temperature fino a 1600°C
Elevata purezza: prodotto mediante deposizione chimica da vapore CVD in condizioni di clorurazione ad alta temperatura.
Resistenza alla corrosione: elevata durezza, superficie densa e particelle fini.
Resistenza alla corrosione: acidi, alcali, sale e reagenti organici.
- Ottieni il miglior modello di flusso di gas laminare
- Garantire l'uniformità del profilo termico
- Prevenire qualsiasi contaminazione o diffusione di impurità