Puoi essere certo di acquistare il supporto per incisione ICP dalla nostra fabbrica e ti offriremo il miglior servizio post-vendita e consegne puntuali. Il suscettore del wafer Semicorex è realizzato in grafite rivestita in carburo di silicio utilizzando il processo di deposizione chimica in fase vapore (CVD). Questo materiale possiede proprietà uniche, tra cui resistenza alle alte temperature e agli agenti chimici, eccellente resistenza all'usura, elevata conduttività termica ed elevata resistenza e rigidità. Queste proprietà lo rendono un materiale interessante per varie applicazioni ad alta temperatura, compresi i sistemi di incisione al plasma accoppiato induttivamente (ICP).
Forniamo servizi personalizzati, vi aiutiamo a innovare con componenti che durano più a lungo, riducono i tempi di ciclo e migliorano i rendimenti.