Cina Supporto per incisione ICP Produttori, Fornitori, Fabbrica

Puoi essere certo di acquistare ICP Etching Carrier dalla nostra fabbrica e ti offriremo il miglior servizio post-vendita e consegne puntuali. Il suscettore di wafer Semicorex è realizzato in grafite rivestita di carburo di silicio utilizzando il processo di deposizione chimica da vapore (CVD). Questo materiale possiede proprietà uniche, tra cui resistenza alle alte temperature e agli agenti chimici, eccellente resistenza all'usura, elevata conduttività termica, elevata resistenza e rigidità. Queste proprietà lo rendono un materiale attraente per varie applicazioni ad alta temperatura, inclusi i sistemi di incisione al plasma accoppiato induttivamente (ICP).

Forniamo servizi personalizzati, ti aiutiamo a innovare con componenti che durano più a lungo, riducono i tempi di ciclo e migliorano i rendimenti.

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Piastra portante per incisione ICP

La piastra portante per incisione ICP di Semicorex è la soluzione perfetta per i processi impegnativi di manipolazione dei wafer e di deposizione di film sottili. Il nostro prodotto offre una resistenza superiore al calore e alla corrosione, uniformità termica uniforme e modelli di flusso laminare del gas. Con una superficie pulita e liscia, il nostro supporto è perfetto per maneggiare wafer incontaminati.

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Supporto per wafer per processo di incisione ICP

Il supporto per wafer di Semicorex per il processo di incisione ICP è la scelta perfetta per i processi impegnativi di manipolazione dei wafer e di deposizione di film sottili. Il nostro prodotto vanta una resistenza superiore al calore e alla corrosione, uniformità termica uniforme e modelli di flusso di gas laminare ottimali per risultati coerenti e affidabili.

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ICP Grafite rivestita di carbonio al silicio

La grafite rivestita di carbonio di silicio ICP di Semicorex è la scelta ideale per i processi di manipolazione dei wafer e di deposizione di film sottili. Il nostro prodotto vanta una resistenza superiore al calore e alla corrosione, uniformità termica uniforme e modelli di flusso di gas laminare ottimali.

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Sistema di incisione al plasma ICP per processo PSS

Scegliete il sistema di incisione al plasma ICP di Semicorex per il processo PSS per processi di epitassia e MOCVD di alta qualità. Il nostro prodotto è progettato specificamente per questi processi, offrendo una resistenza superiore al calore e alla corrosione. Con una superficie pulita e liscia, il nostro supporto è perfetto per maneggiare wafer incontaminati.

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Piastra per incisione al plasma ICP

La piastra per incisione al plasma ICP di Semicorex offre una resistenza superiore al calore e alla corrosione per la manipolazione dei wafer e i processi di deposizione di film sottili. Il nostro prodotto è progettato per resistere alle alte temperature e alla pulizia chimica dura, garantendo durata e longevità. Con una superficie pulita e liscia, il nostro supporto è perfetto per maneggiare wafer incontaminati.

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Supporto per incisione ICP in carburo di silicio

Cerchi un porta wafer affidabile per i processi di incisione? Non guardare oltre il supporto per incisione ICP in carburo di silicio di Semicorex. Il nostro prodotto è progettato per resistere alle alte temperature e alla pulizia chimica dura, garantendo durata e longevità. Con una superficie pulita e liscia, il nostro supporto è perfetto per maneggiare wafer incontaminati.

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Semicorex produce Supporto per incisione ICP da molti anni ed è uno dei produttori e fornitori Supporto per incisione ICP professionali in Cina. Una volta acquistati i nostri prodotti avanzati e durevoli che forniscono imballaggi sfusi, garantiamo la grande quantità in consegna rapida. Nel corso degli anni, abbiamo fornito ai clienti un servizio personalizzato. I clienti sono soddisfatti dei nostri prodotti e del servizio eccellente. Non vediamo l'ora di diventare il vostro partner commerciale affidabile a lungo termine! Benvenuti a comprare prodotti dalla nostra fabbrica.