Cina Supporto per incisione ICP Produttori, Fornitori, Fabbrica

Puoi essere certo di acquistare il supporto per incisione ICP dalla nostra fabbrica e ti offriremo il miglior servizio post-vendita e consegne puntuali. Il suscettore del wafer Semicorex è realizzato in grafite rivestita in carburo di silicio utilizzando il processo di deposizione chimica in fase vapore (CVD). Questo materiale possiede proprietà uniche, tra cui resistenza alle alte temperature e agli agenti chimici, eccellente resistenza all'usura, elevata conduttività termica ed elevata resistenza e rigidità. Queste proprietà lo rendono un materiale interessante per varie applicazioni ad alta temperatura, compresi i sistemi di incisione al plasma accoppiato induttivamente (ICP).

Forniamo servizi personalizzati, vi aiutiamo a innovare con componenti che durano più a lungo, riducono i tempi di ciclo e migliorano i rendimenti.

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Plasma accoppiato induttivamente (ICP)

Il suscettore rivestito in carburo di silicio di Semicorex per plasma accoppiato induttivamente (ICP) è progettato specificamente per processi di gestione di wafer ad alta temperatura come epitassia e MOCVD. Con una resistenza all'ossidazione stabile e alle alte temperature fino a 1600°C, i nostri supporti garantiscono profili termici uniformi, schemi di flusso di gas laminare e prevengono la contaminazione o la diffusione di impurità.

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Porta wafer per incisione ICP

Il supporto per wafer di incisione ICP di Semicorex è la soluzione perfetta per i processi di gestione dei wafer ad alta temperatura come epitassia e MOCVD. Con una resistenza all'ossidazione stabile e alle alte temperature fino a 1600°C, i nostri supporti garantiscono profili termici uniformi, schemi di flusso di gas laminare e prevengono la contaminazione o la diffusione di impurità.

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Piastra portante per incisione ICP

La piastra portante per incisione ICP di Semicorex è la soluzione perfetta per i processi più impegnativi di gestione dei wafer e di deposizione di film sottile. Il nostro prodotto offre resistenza superiore al calore e alla corrosione, uniformità termica e modelli di flusso di gas laminare. Con una superficie pulita e liscia, il nostro supporto è perfetto per la movimentazione di wafer incontaminati.

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Supporto per wafer per il processo di incisione ICP

Il supporto per wafer di Semicorex per il processo di incisione ICP è la scelta perfetta per la gestione impegnativa dei wafer e i processi di deposizione di film sottile. Il nostro prodotto vanta una resistenza superiore al calore e alla corrosione, un'uniformità termica uniforme e schemi di flusso di gas laminare ottimali per risultati coerenti e affidabili.

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Grafite rivestita in carbonio silicio ICP

La grafite rivestita in carbonio siliconico ICP di Semicorex è la scelta ideale per i processi impegnativi di gestione dei wafer e di deposizione di film sottile. Il nostro prodotto vanta una resistenza superiore al calore e alla corrosione, un'uniformità termica uniforme e schemi di flusso di gas laminare ottimali.

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Sistema di incisione al plasma ICP per il processo PSS

Scegli il sistema di incisione al plasma ICP di Semicorex per il processo PSS per processi epitassia e MOCVD di alta qualità. Il nostro prodotto è progettato specificatamente per questi processi e offre una resistenza superiore al calore e alla corrosione. Con una superficie pulita e liscia, il nostro supporto è perfetto per la movimentazione di wafer incontaminati.

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Semicorex produce Supporto per incisione ICP da molti anni ed è uno dei produttori e fornitori Supporto per incisione ICP professionali in Cina. Una volta acquistati i nostri prodotti avanzati e durevoli che forniscono imballaggi sfusi, garantiamo la grande quantità in consegna rapida. Nel corso degli anni, abbiamo fornito ai clienti un servizio personalizzato. I clienti sono soddisfatti dei nostri prodotti e del servizio eccellente. Non vediamo l'ora di diventare il vostro partner commerciale affidabile a lungo termine! Benvenuti a comprare prodotti dalla nostra fabbrica.