Il componente ICP con rivestimento in SiC di Semicorex è progettato specificamente per processi di manipolazione di wafer ad alta temperatura come epitassia e MOCVD. Con un fine rivestimento in cristallo SiC, i nostri supporti offrono una resistenza al calore superiore, uniforme uniformità termica e resistenza chimica duratura.
Il componente ICP con rivestimento in SiC di Semicorex è la scelta migliore per i processi di manipolazione dei wafer che richiedono resistenza alle alte temperature e agli agenti chimici. I nostri vettori forniscono profili termici uniformi, modelli di flusso di gas laminare e prevengono la diffusione di contaminazioni o impurità grazie al nostro fine cristallo SiC. Con un sottile rivestimento in cristallo SiC, i nostri supporti offrono una resistenza al calore superiore, uniforme uniformità termica e resistenza chimica duratura.
In Semicorex, ci concentriamo sulla fornitura di prodotti di alta qualità e convenienti ai nostri clienti. Il nostro componente ICP rivestito in SiC ha un prezzo vantaggioso ed è esportato in molti mercati europei e americani. Miriamo a essere il vostro partner a lungo termine, offrendo prodotti di qualità costante e un servizio clienti eccezionale.
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Parametri del componente ICP rivestito di SiC
Principali caratteristiche del rivestimento CVD-SIC |
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Proprietà SiC-CVD |
||
Struttura di cristallo |
FCC fase β |
|
Densità |
g/cm³ |
3.21 |
Durezza |
Durezza Vickers |
2500 |
Granulometria |
μm |
2~10 |
Purezza chimica |
% |
99.99995 |
Capacità termica |
J·kg-1 ·K-1 |
640 |
Temperatura di sublimazione |
℃ |
2700 |
Resistenza alla flessione |
MPa (RT 4 punti) |
415 |
Modulo di Young |
Gpa (curva 4pt, 1300℃) |
430 |
Espansione termica (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
Conduttività termica |
(W/mK) |
300 |
Caratteristiche del componente ICP rivestito in SiC
- Evitare di staccarsi e garantire il rivestimento su tutta la superficie
Resistenza all'ossidazione ad alta temperatura: Stabile ad alte temperature fino a 1600°C
Elevata purezza: prodotto mediante deposizione chimica da vapore CVD in condizioni di clorurazione ad alta temperatura.
Resistenza alla corrosione: elevata durezza, superficie densa e particelle fini.
Resistenza alla corrosione: acidi, alcali, sale e reagenti organici.
- Ottieni il miglior modello di flusso di gas laminare
- Garantire l'uniformità del profilo termico
- Prevenire qualsiasi contaminazione o diffusione di impurità