Componente ICP rivestito in SiC

Componente ICP rivestito in SiC

Il componente ICP con rivestimento in SiC di Semicorex è progettato specificamente per processi di manipolazione di wafer ad alta temperatura come epitassia e MOCVD. Con un fine rivestimento in cristallo SiC, i nostri supporti offrono una resistenza al calore superiore, uniforme uniformità termica e resistenza chimica duratura.

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Descrizione del prodotto

Il componente ICP con rivestimento in SiC di Semicorex è la scelta migliore per i processi di manipolazione dei wafer che richiedono resistenza alle alte temperature e agli agenti chimici. I nostri vettori forniscono profili termici uniformi, modelli di flusso di gas laminare e prevengono la diffusione di contaminazioni o impurità grazie al nostro fine cristallo SiC. Con un sottile rivestimento in cristallo SiC, i nostri supporti offrono una resistenza al calore superiore, uniforme uniformità termica e resistenza chimica duratura.
In Semicorex, ci concentriamo sulla fornitura di prodotti di alta qualità e convenienti ai nostri clienti. Il nostro componente ICP rivestito in SiC ha un prezzo vantaggioso ed è esportato in molti mercati europei e americani. Miriamo a essere il vostro partner a lungo termine, offrendo prodotti di qualità costante e un servizio clienti eccezionale.
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Parametri del componente ICP rivestito di SiC

Principali caratteristiche del rivestimento CVD-SIC

Proprietà SiC-CVD

Struttura di cristallo

FCC fase β

Densità

g/cm³

3.21

Durezza

Durezza Vickers

2500

Granulometria

μm

2~10

Purezza chimica

%

99.99995

Capacità termica

J·kg-1 ·K-1

640

Temperatura di sublimazione

2700

Resistenza alla flessione

MPa (RT 4 punti)

415

Modulo di Young

Gpa (curva 4pt, 1300℃)

430

Espansione termica (C.T.E)

10-6K-1

4.5

Conduttività termica

(W/mK)

300


Caratteristiche del componente ICP rivestito in SiC

- Evitare di staccarsi e garantire il rivestimento su tutta la superficie

Resistenza all'ossidazione ad alta temperatura: Stabile ad alte temperature fino a 1600°C

Elevata purezza: prodotto mediante deposizione chimica da vapore CVD in condizioni di clorurazione ad alta temperatura.

Resistenza alla corrosione: elevata durezza, superficie densa e particelle fini.

Resistenza alla corrosione: acidi, alcali, sale e reagenti organici.

- Ottieni il miglior modello di flusso di gas laminare

- Garantire l'uniformità del profilo termico

- Prevenire qualsiasi contaminazione o diffusione di impurità





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