Componente ICP rivestito in SiC

Componente ICP rivestito in SiC

Il componente ICP rivestito in SiC di Semicorex è progettato specificamente per processi di gestione di wafer ad alta temperatura come epitassia e MOCVD. Con un sottile rivestimento in cristalli SiC, i nostri supporti forniscono una resistenza al calore superiore, un'uniformità termica uniforme e una resistenza chimica duratura.

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Descrizione del prodotto

Il componente ICP rivestito in SiC di Semicorex è la scelta migliore per i processi di gestione dei wafer che richiedono resistenza alle alte temperature e agli agenti chimici. I nostri trasportatori forniscono profili termici uniformi, schemi di flusso di gas laminare e prevengono la contaminazione o la diffusione di impurità grazie al nostro sottile cristallo SiC. Con un sottile rivestimento in cristalli SiC, i nostri supporti forniscono una resistenza al calore superiore, un'uniformità termica uniforme e una resistenza chimica duratura.
Noi di Semicorex ci concentriamo sulla fornitura di prodotti di alta qualità e convenienti ai nostri clienti. Il nostro componente ICP rivestito in SiC ha un vantaggio in termini di prezzo e viene esportato in molti mercati europei e americani. Puntiamo a essere il vostro partner a lungo termine, offrendo prodotti di qualità costante e un servizio clienti eccezionale.
Contattaci oggi per saperne di più sul nostro componente ICP rivestito in SiC.


Parametri del componente ICP rivestito in SiC

Specifiche principali del rivestimento CVD-SIC

Proprietà SiC-CVD

Struttura cristallina

Fase β dell'FCC

Densità

g/cm³

3.21

Durezza

Durezza Vickers

2500

Granulometria

µm

2~10

Purezza chimica

%

99.99995

Capacità termica

J kg-1 K-1

640

Temperatura di sublimazione

2700

Forza flessionale

MPa (RT 4 punti)

415

Modulo di Young

Gpa (curvatura 4 punti, 1300 ℃)

430

Dilatazione Termica (C.T.E)

10-6K-1

4.5

Conduttività termica

(W/mK)

300


Caratteristiche del componente ICP rivestito in SiC

- Evitare il distacco e garantire il rivestimento su tutta la superficie

Resistenza all'ossidazione alle alte temperature: Stabile alle alte temperature fino a 1600°C

Elevata purezza: prodotto mediante deposizione chimica di vapore CVD in condizioni di clorazione ad alta temperatura.

Resistenza alla corrosione: elevata durezza, superficie densa e particelle fini.

Resistenza alla corrosione: acidi, alcali, sale e reagenti organici.

- Ottieni il miglior modello di flusso di gas laminare

- Garantire l'uniformità del profilo termico

- Evitare qualsiasi contaminazione o diffusione di impurità





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