Come produttori professionali, vorremmo fornirvi l'epitassia SiC. E ti offriremo il miglior servizio post-vendita e consegne puntuali. Semicorex fornisce suscettore di grafite rivestito in carburo di silicio CVD utilizzato per supportare i wafer. La loro struttura in grafite rivestita in carburo di silicio (SiC) di elevata purezza fornisce una resistenza al calore superiore, un'uniformità termica uniforme per uno spessore e una resistenza costanti dello strato Epi e una resistenza chimica duratura. Il rivestimento in cristalli SiC fini fornisce una superficie pulita e liscia, fondamentale per la manipolazione poiché i wafer incontaminati entrano in contatto con il suscettore in molti punti dell'intera area.
Il componente epitassia Semicorex è un elemento cruciale nella produzione di substrati SiC di alta qualità per applicazioni avanzate di semiconduttori, una scelta affidabile per i sistemi di reattori LPE. Scegliendo Semicorex Epitaxy Component, i clienti possono avere fiducia nel proprio investimento e migliorare le proprie capacità di produzione nel competitivo mercato dei semiconduttori.*
Per saperne di piùInvia richiestaLa camera di reazione Halfmoon Semicorex LPE è indispensabile per il funzionamento efficiente e affidabile dell'epitassia SiC, garantendo la produzione di strati epitassiali di alta qualità riducendo al contempo i costi di manutenzione e aumentando l'efficienza operativa. **
Per saperne di piùInvia richiestaIl portawafer Semicorex da 6'' per Aixtron G5 offre numerosi vantaggi per l'uso nelle apparecchiature Aixtron G5, in particolare nei processi di produzione di semiconduttori ad alta temperatura e ad alta precisione.**
Per saperne di piùInvia richiestaSemicorex Epitaxy Wafer Carrier fornisce una soluzione altamente affidabile per le applicazioni Epitaxy. I materiali avanzati e la tecnologia di rivestimento garantiscono che questi supporti forniscano prestazioni eccezionali, riducendo i costi operativi e i tempi di inattività dovuti alla manutenzione o alla sostituzione.**
Per saperne di piùInvia richiestaSemicorex presenta il suo suscettore a disco SiC, progettato per migliorare le prestazioni delle apparecchiature per l'epitassia, la deposizione chimica in fase vapore metallo-organica (MOCVD) e il trattamento termico rapido (RTP). Il suscettore del disco SiC meticolosamente progettato offre proprietà che garantiscono prestazioni, durata ed efficienza superiori in ambienti ad alta temperatura e sotto vuoto.**
Per saperne di piùInvia richiestaIl suscettore Semicorex SiC ALD offre numerosi vantaggi nei processi ALD, tra cui stabilità alle alte temperature, maggiore uniformità e qualità della pellicola, migliore efficienza del processo e durata prolungata del suscettore. Questi vantaggi rendono il susceptor SiC ALD uno strumento prezioso per ottenere film sottili ad alte prestazioni in varie applicazioni impegnative.**
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