Come produttori professionali, vorremmo fornirvi l'epitassia SiC. E ti offriremo il miglior servizio post-vendita e consegne puntuali. Semicorex fornisce suscettore di grafite rivestito in carburo di silicio CVD utilizzato per supportare i wafer. La loro struttura in grafite rivestita in carburo di silicio (SiC) di elevata purezza fornisce una resistenza al calore superiore, un'uniformità termica uniforme per uno spessore e una resistenza costanti dello strato Epi e una resistenza chimica duratura. Il rivestimento in cristalli SiC fini fornisce una superficie pulita e liscia, fondamentale per la manipolazione poiché i wafer incontaminati entrano in contatto con il suscettore in molti punti dell'intera area.
La parte LPE di Semicorex è un componente rivestito con SIC specificamente progettato per il processo di epitassia SIC, offrendo una stabilità termica eccezionale e una resistenza chimica per garantire un funzionamento efficiente in ambienti ad alta temperatura e duri. Scegliendo i prodotti Semicorex, beneficiate di soluzioni personalizzate ad alta precisione e di lunga durata che ottimizzano il processo di crescita dell'epitassia SIC e migliorano l'efficienza della produzione.*
Per saperne di piùInvia richiestaIl vassoio in carburo di silicio Semicorex è costruito per resistere a condizioni estreme garantendo prestazioni notevoli. Svolge un ruolo cruciale nel processo di attacco ICP, nella diffusione dei semiconduttori e nel processo epitassiale MOCVD.
Per saperne di piùInvia richiestaIl componente epitassia Semicorex è un elemento cruciale nella produzione di substrati SiC di alta qualità per applicazioni avanzate di semiconduttori, una scelta affidabile per i sistemi di reattori LPE. Scegliendo Semicorex Epitaxy Component, i clienti possono avere fiducia nel proprio investimento e migliorare le proprie capacità di produzione nel competitivo mercato dei semiconduttori.*
Per saperne di piùInvia richiestaLa camera di reazione Halfmoon Semicorex LPE è indispensabile per il funzionamento efficiente e affidabile dell'epitassia SiC, garantendo la produzione di strati epitassiali di alta qualità riducendo al contempo i costi di manutenzione e aumentando l'efficienza operativa. **
Per saperne di piùInvia richiestaIl portawafer Semicorex da 6'' per Aixtron G5 offre numerosi vantaggi per l'uso nelle apparecchiature Aixtron G5, in particolare nei processi di produzione di semiconduttori ad alta temperatura e ad alta precisione.**
Per saperne di piùInvia richiestaSemicorex Epitaxy Wafer Carrier fornisce una soluzione altamente affidabile per le applicazioni Epitaxy. I materiali avanzati e la tecnologia di rivestimento garantiscono che questi supporti forniscano prestazioni eccezionali, riducendo i costi operativi e i tempi di inattività dovuti alla manutenzione o alla sostituzione.**
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