Parte LPE
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Parte LPE

La parte LPE di Semicorex è un componente rivestito con SIC specificamente progettato per il processo di epitassia SIC, offrendo una stabilità termica eccezionale e una resistenza chimica per garantire un funzionamento efficiente in ambienti ad alta temperatura e duri. Scegliendo i prodotti Semicorex, beneficiate di soluzioni personalizzate ad alta precisione e di lunga durata che ottimizzano il processo di crescita dell'epitassia SIC e migliorano l'efficienza della produzione.*

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Descrizione del prodotto

Le parti LPE Semicorex sono componenti rivestiti con SIC ad alte prestazioni specificamente progettati per l'uso nel processo di epitassia SIC. Questi componenti sono progettati per resistere alle condizioni impegnative della crescita dei cristalli SIC, fornendo una stabilità termica superiore, una resistenza chimica e una resistenza meccanica. Quando si sceglie le parti LPE di Semicorex, sono garantite una durata eccezionale, la precisione e una soluzione su misura per le esigenze del processo di epitassia SIC.


Le parti LPE Semicorex sono realizzate con materiali avanzati e tecniche di produzione precise, garantendo coerenza e affidabilità in ogni unità. Le proprietà fisiche e chimiche del rivestimento hanno requisiti rigorosi per la resistenza ad alta temperatura e la resistenza alla corrosione, che influenzano direttamente la resa e la vita del prodotto. Il materiale SIC ha un'alta resistenza, un'alta durezza, un coefficiente di espansione termica bassa e una buona conducibilità termica. È un importante materiale strutturale ad alta temperatura e materiale a semiconduttore ad alta temperatura. Viene applicato alle basi di grafite. I suoi vantaggi sono:

1) SIC è resistente alla corrosione e può avvolgere completamente la base di grafite e ha una buona densità per evitare danni da gas corrosivi. 2) SIC ha un'elevata conduttività termica e un'elevata resistenza al legame con la base di grafite, garantendo che il rivestimento non sia facile da cadere dopo aver sperimentato più cicli ad alta temperatura e bassa temperatura. 3) SIC ha una buona stabilità chimica per evitare il fallimento del rivestimento in un'atmosfera ad alta temperatura e corrosiva. Inoltre, i forni epitassiali di materiali diversi richiedono vassoi di grafite con diversi indicatori di prestazione. L'abbinamento del coefficiente di espansione termica dei materiali di grafite richiede l'adattamento alla temperatura di crescita del forno epitassiale. Ad esempio, la temperatura dell'epitassia in carburo di silicio è elevata ed è richiesto un vassoio con un'alta corrispondenza del coefficiente di espansione termica. Il coefficiente di espansione termica di SIC è molto vicino a quello della grafite, rendendolo adatto come materiale preferito per il rivestimento superficiale della base di grafite.


Applicazioni nel processo di epitassia SIC


Il processo di epitassia SIC è un passo fondamentale nella produzione di wafer SiC di alta qualità utilizzati per dispositivi a semiconduttore, tra cui elettronica di potenza e optoelettronica. Le parti LPE, in particolare quelle con rivestimenti SIC, svolgono un ruolo essenziale nel controllo preciso della temperatura e delle reazioni chimiche all'interno del reattore. Questi componenti sono posizionati strategicamente nel reattore per facilitare la crescita ottimale del wafer mantenendo la purezza e l'uniformità dei cristalli SIC.


In Semicorex, comprendiamo che ogni processo di epitassia SIC ha requisiti unici. Ecco perché le nostre parti LPE possono essere completamente personalizzate per soddisfare le esigenze specifiche della tua operazione. Che si tratti di dimensioni, forma o spessore del rivestimento, il nostro team di ingegneria lavora a stretto contatto con i clienti per fornire componenti che ottimizzano i loro processi di produzione.


Il rivestimento SIC di alta qualità applicato alle nostre parti garantisce anche una durata superiore. A differenza dei materiali convenzionali, SIC offre una durata più lunga in condizioni operative dure, riducendo la frequenza di manutenzione e tempi di inattività. Questa longevità si traduce in minori costi operativi e una maggiore efficienza per i produttori di semiconduttori.


Le parti LPE Semicorex sono progettate con precisione e progettate per soddisfare le rigide esigenze del processo di epitassia SIC. I nostri componenti sono prodotti utilizzando la tecnologia più recente, garantendo che forniscano prestazioni e longevità senza pari. Scegliendo Semicorex, stai selezionando un partner che comprende le complessità della produzione di semiconduttori e si impegna a fornire prodotti affidabili e di alta qualità che migliorano le tue capacità di produzione.


Parti LPE Semicorex, con le loroRivestimento sic, sono la scelta ideale per migliorare le prestazioni e la longevità dei reattori SIC Epitaxy. Questi componenti forniscono una stabilità termica superiore, una resistenza chimica e una resistenza meccanica, garantendo che il processo di crescita dei cristalli SIC funzioni senza intoppi ed efficiente. Con le opzioni di personalizzazione disponibili, Semicorex offre una soluzione su misura che soddisfi i requisiti specifici del processo, rendendoci il partner di fiducia per i produttori di semiconduttori in tutto il mondo.


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