Piastra satellitare
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Piastra satellitare

La piastra satellitare Semicorex è un componente critico utilizzato nei reattori epitaxy a semiconduttore, appositamente progettato per l'attrezzatura Aixtron G5+. Semicorex combina competenze sui materiali avanzati con la tecnologia di rivestimento all'avanguardia per fornire soluzioni affidabili e ad alte prestazioni su misura per applicazioni industriali esigenti.*

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Descrizione del prodotto

La piastra satellitare Semicorex è un vettore di wafer vitale durante il processo di crescita epitassiale, garantendo una deposizione uniforme e un'efficienza ottimale del processo. Costruita con grafite di alta purezza e rivestita con uno strato di carburo di silicio robusto (SIC), questa piastra offre una stabilità termica eccezionale, resistenza chimica e resistenza meccanica, consolidando la sua posizione come componente indispensabile nella produzione di semiconduttori ad alta prestazione.


Con una base di grafite di alta purezza, la piastra satellitare eccelle nella conduttività termica e nell'integrità strutturale. ILRivestimento sicAumenta significativamente la sua durata, fornendo resistenza ad alta temperatura, inerzia chimica e riducendo drasticamente la generazione di particelle. Questa potente combinazione garantisce che la piastra sopporta condizioni di elaborazione dure mentre si esibisce costantemente ad alto livello. La base di grafite facilita un efficiente trasferimento di calore, garantendo una distribuzione uniforme della temperatura attraverso il wafer, mentre il rivestimento SIC protegge dai gas di processo corrosivi, prevenendo la contaminazione e estendendo la durata della durata. Inoltre, la superficie SIC riduce al minimo il rilascio di particelle, che è fondamentale per raggiungere la fabbricazione di semiconduttori ad alto rendimento.


Progettato specificamente per l'integrazione senza soluzione di continuità con i sistemi Aixtron G5+, la piastra satellitare garantisce un posizionamento preciso del wafer e l'equilibrio rotazionale, essenziale per mantenere condizioni termiche stabili e ridurre i tassi di difetti. La composizione avanzata del materiale della piastra non solo estende la sua durata di servizio, ma riduce anche significativamente i costi operativi e migliora la produttività manifatturiera.


Utilizzato principalmente nel processo di deposizione di vapore chimico organico metallico (MOCVD), la piastra satellite è cruciale per la coltivazione di strati epitassiali su wafer a semiconduttore. Ha un ruolo chiave nella produzione di dispositivi a semiconduttore avanzato, tra cui LED, elettronica di alimentazione a base di SIC e GAN, componenti fotonici e optoelettronici e dispositivi RF ad alta frequenza. Garantendo condizioni termiche stabili e minimizzando la contaminazione, la piastra satellitare garantisce una crescita costante dello strato epitassiale, portando a una migliore manipolazione dei wafer e a tassi di resa più elevati. Il suo design ottimizzato fissa in modo efficiente il supporto del wafer, riducendo i difetti e garantendo la precisione durante le fasi di elaborazione dei semiconduttori.


La piastra satellitare Semicorex funge da componente essenziale per i reattori Aixtron G5+ Epitaxy, fornendo durata senza pari, resistenza chimica e prestazioni termiche. La sua composizione e ingegneria dei materiali all'avanguardia lo rendono fondamentale per il processo di produzione dei semiconduttori, garantendo la produzione di wafer ad alto rendimento e di alta qualità. Investi nella piastra satellitare per elevare la fabbricazione di semiconduttori e raggiungere l'eccellenza nei processi di crescita epitassiale.


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