Elettrodi di silicio monocristallino

Elettrodi in silicio monocristallinosono tipicamente installati nella parte superiore della camera di attacco, fungendo da elettrodo superiore. La superficie degli elettrodi di silicio monocristallino presenta microfori distribuiti uniformemente, che possono fornire uniformemente il gas di attacco nella camera di reazione. Durante il processo di incisione, lavorano con l'elettrodo inferiore per generare un campo elettrico uniforme, che contribuisce a fornire una condizione operativa ideale per un'incisione di precisione.

Selezioni accurate dei materiali

Semicorex seleziona il silicio monocristallino di alta qualità coltivato da MCZ per produrre elettrodi in silicio monocristallino, offrendo prestazioni e qualità del prodotto leader del settore.

1. Purezza ultraelevata

Gli elettrodi in silicio monocristallino Semicorex presentano una purezza ultraelevata superiore al 99,9999999%, il che significa che il contenuto di impurità metalliche interne è estremamente basso.

2. Eccezionale uniformità di resistenza

Diversamente dal silicio monocristallino CZ convenzionale, il silicio monocristallino sviluppato da MCZ utilizzato da Semicorex raggiunge un'uniformità di resistività inferiore al 5%. È a bassa risoluzione. è controllato al di sotto di 0,02 Ω·cm, risoluzione media. è compreso tra 0,2 e 25Ω·cm e alta risoluzione. è compreso tra 70 e 90 Ω·cm (la personalizzazione è disponibile su richiesta).

3. Eccellente struttura del materiale

Il silicio monocristallino cresciuto tramite il metodo MCZ offre una struttura più stabile e meno difetti, facendo sì che gli elettrodi di silicio monocristallino Semicorex offrano una notevole resistenza alla corrosione del plasma e resistano a condizioni operative di incisione difficili.

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Precisione di lavorazione di alto livello

Semicorexsilicio monocristallinoGli elettrodi vengono fabbricati attraverso un processo di produzione completo, dal lingotto di silicio al prodotto finito, tra cui taglio, rettifica superficiale, perforazione, incisione a umido e lucidatura superficiale. Semicorex mantiene un rigoroso controllo di precisione in ogni fase per garantire che il diametro, lo spessore, la planarità della superficie, la spaziatura dei fori e l'apertura degli elettrodi siano mantenuti entro tolleranze ideali.

1. Elaborazione dei microfori

I microfori sugli elettrodi di silicio monocristallino presentano spaziatura uniforme e diametri costanti (compresi tra 0,2 e 0,8 mm), con pareti interne lisce e prive di bave. Ciò garantisce efficacemente una fornitura uniforme e stabile del gas di incisione, garantendo così l'uniformità e la precisione dell'incisione dei wafer.

2. Precisione dell'elaborazione

La precisione di lavorazione degli elettrodi in silicio monocristallino Semicorex è controllata entro 0,3 mm e la loro precisione di lucidatura può essere rigorosamente controllata al di sotto di 0,1 µm e la macinazione fine è inferiore a 1,6 µm.