Il rivestimento SiC è uno strato sottile sul suscettore attraverso il processo di deposizione chimica in fase vapore (CVD). Il materiale in carburo di silicio offre numerosi vantaggi rispetto al silicio, tra cui 10 volte l'intensità del campo elettrico di rottura, 3 volte l'intervallo di banda, che fornisce al materiale resistenza alle alte temperature e agli agenti chimici, eccellente resistenza all'usura e conduttività termica.
Semicorex fornisce un servizio personalizzato, ti aiuta a innovare con componenti che durano più a lungo, riducono i tempi di ciclo e migliorano i rendimenti.
Il rivestimento SiC possiede diversi vantaggi unici
Resistenza alle alte temperature: il suscettore rivestito in SiC CVD può resistere a temperature elevate fino a 1600°C senza subire un significativo degrado termico.
Resistenza chimica: il rivestimento in carburo di silicio offre un'eccellente resistenza a un'ampia gamma di sostanze chimiche, inclusi acidi, alcali e solventi organici.
Resistenza all'usura: il rivestimento SiC fornisce al materiale un'eccellente resistenza all'usura, rendendolo adatto per applicazioni che comportano un'elevata usura.
Conduttività termica: il rivestimento CVD SiC fornisce al materiale un'elevata conduttività termica, rendendolo adatto all'uso in applicazioni ad alta temperatura che richiedono un efficiente trasferimento di calore.
Elevata resistenza e rigidità: il suscettore rivestito in carburo di silicio fornisce al materiale elevata resistenza e rigidità, rendendolo adatto per applicazioni che richiedono elevata resistenza meccanica.
Il rivestimento SiC viene utilizzato in varie applicazioni
Produzione di LED: il suscettore rivestito in SiC CVD viene utilizzato nella produzione di vari tipi di LED, inclusi LED blu e verdi, LED UV e LED UV profondo, grazie alla sua elevata conduttività termica e resistenza chimica.
Comunicazione mobile: il suscettore rivestito in SiC CVD è una parte cruciale dell'HEMT per completare il processo epitassiale GaN-on-SiC.
Lavorazione dei semiconduttori: il suscettore rivestito in SiC CVD viene utilizzato nell'industria dei semiconduttori per varie applicazioni, tra cui la lavorazione dei wafer e la crescita epitassiale.
Componenti in grafite rivestita in SiC
Realizzato in grafite con rivestimento in carburo di silicio (SiC), il rivestimento viene applicato con un metodo CVD a gradi specifici di grafite ad alta densità, in modo che possa funzionare nel forno ad alta temperatura con oltre 3000 °C in atmosfera inerte, 2200 °C sotto vuoto .
Le proprietà speciali e la massa ridotta del materiale consentono velocità di riscaldamento elevate, distribuzione uniforme della temperatura e straordinaria precisione di controllo.
Dati sui materiali del rivestimento Semicorex SiC
Proprietà tipiche |
Unità |
Valori |
Struttura |
|
Fase β dell'FCC |
Orientamento |
Frazione (%) |
111 preferito |
Densità apparente |
g/cm³ |
3.21 |
Durezza |
Durezza Vickers |
2500 |
Capacità termica |
J kg-1 K-1 |
640 |
Espansione termica 100–600 °C (212–1112 °F) |
10-6K-1 |
4.5 |
Modulo di Young |
Gpa (curvatura 4 punti, 1300 ℃) |
430 |
Granulometria |
µm |
2~10 |
Temperatura di sublimazione |
℃ |
2700 |
Forza flessionale |
MPa (RT 4 punti) |
415 |
Conduttività termica |
(W/mK) |
300 |
Conclusione Il suscettore rivestito in SiC CVD è un materiale composito che combina le proprietà di un suscettore e di carburo di silicio. Questo materiale possiede proprietà uniche, tra cui resistenza alle alte temperature e agli agenti chimici, eccellente resistenza all'usura, elevata conduttività termica ed elevata resistenza e rigidità. Queste proprietà lo rendono un materiale interessante per varie applicazioni ad alta temperatura, tra cui la lavorazione dei semiconduttori, la lavorazione chimica, il trattamento termico, la produzione di celle solari e la produzione di LED.
La grafite rivestita in carburo di silicio del suscettore del cilindro Semicorex è un componente specializzato progettato per l'uso nel processo di epitassia, in particolare nel trasporto di wafer. Contattaci oggi per saperne di più su come possiamo aiutarti con le tue esigenze di elaborazione di wafer semiconduttori.
Per saperne di piùInvia richiestaIl suscettore di grafite rivestito Semicorex MOCVD SiC è un componente avanzato e specializzato utilizzato nel processo di deposizione chimica da fase vapore metallo-organica, una tecnica cruciale nella produzione di semiconduttori, dispositivi optoelettronici e altri materiali avanzati. Semicorex si impegna a fornire prodotti di qualità a prezzi competitivi, non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.
Per saperne di piùInvia richiestaSemicorex Susceptor Semiconductor, un rivoluzionario suscettore in grafite realizzato meticolosamente per elevare la produzione di semiconduttori a nuovi livelli. Progettato con precisione e innovazione, questo suscettore vanta un rivestimento CVD SiC che lo distingue nel settore. Semicorex si impegna a fornire prodotti di qualità a prezzi competitivi, non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.
Per saperne di piùInvia richiestaLa piastra semicorex susceptor è un componente cruciale nel processo di crescita epitassiale, progettata specificamente per trasportare wafer semiconduttori durante la deposizione di film o strati sottili. Semicorex si impegna a fornire prodotti di qualità a prezzi competitivi, non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.
Per saperne di piùInvia richiestaIl semicorex susceptor with grid è un componente specializzato utilizzato nel processo di crescita epitassiale dei wafer semiconduttori. Semicorex si impegna a fornire prodotti di qualità a prezzi competitivi, non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.
Per saperne di piùInvia richiestaSfrutta tutto il potenziale dei processi epitassiali dei semiconduttori con il set di anelli Semicorex, un componente cruciale realizzato in grafite rivestita in SiC. Progettato per aumentare l'efficienza e l'affidabilità della crescita epitassiale, questo accessorio piccolo ma potente svolge un ruolo chiave nel garantire prestazioni ottimali negli ambienti di produzione di semiconduttori.
Per saperne di piùInvia richiesta