> Prodotti > Rivestito in carburo di silicio

Prodotti

Nuovi Prodotti

Cina Rivestito in carburo di silicio Produttori, Fornitori, Fabbrica

Il rivestimento SiC è uno strato sottile sul suscettore attraverso il processo di deposizione chimica in fase vapore (CVD). Il materiale in carburo di silicio offre numerosi vantaggi rispetto al silicio, tra cui 10 volte l'intensità del campo elettrico di rottura, 3 volte l'intervallo di banda, che fornisce al materiale resistenza alle alte temperature e agli agenti chimici, eccellente resistenza all'usura e conduttività termica.

Semicorex fornisce un servizio personalizzato, ti aiuta a innovare con componenti che durano più a lungo, riducono i tempi di ciclo e migliorano i rendimenti.

Il rivestimento SiC possiede diversi vantaggi unici

Resistenza alle alte temperature: il suscettore rivestito in SiC CVD può resistere a temperature elevate fino a 1600°C senza subire un significativo degrado termico.

Resistenza chimica: il rivestimento in carburo di silicio offre un'eccellente resistenza a un'ampia gamma di sostanze chimiche, inclusi acidi, alcali e solventi organici.

Resistenza all'usura: il rivestimento SiC fornisce al materiale un'eccellente resistenza all'usura, rendendolo adatto per applicazioni che comportano un'elevata usura.

Conduttività termica: il rivestimento CVD SiC fornisce al materiale un'elevata conduttività termica, rendendolo adatto all'uso in applicazioni ad alta temperatura che richiedono un efficiente trasferimento di calore.

Elevata resistenza e rigidità: il suscettore rivestito in carburo di silicio fornisce al materiale elevata resistenza e rigidità, rendendolo adatto per applicazioni che richiedono elevata resistenza meccanica.

Il rivestimento SiC viene utilizzato in varie applicazioni

Produzione di LED: il suscettore rivestito in SiC CVD viene utilizzato nella produzione di vari tipi di LED, inclusi LED blu e verdi, LED UV e LED UV profondo, grazie alla sua elevata conduttività termica e resistenza chimica.

Supporto per incisione PSS

Suscettore epitassiale LED blu e verde

Suscettore epitassiale LED UV profondo

Comunicazione mobile: il suscettore rivestito in SiC CVD è una parte cruciale dell'HEMT per completare il processo epitassiale GaN-on-SiC.

Portante epitassiale GaN-on-SiC

Suscettore del substrato GaN-on-SiC

Lavorazione dei semiconduttori: il suscettore rivestito in SiC CVD viene utilizzato nell'industria dei semiconduttori per varie applicazioni, tra cui la lavorazione dei wafer e la crescita epitassiale.

Ricevitore a canna

Supporto per incisione ICP

Piastra SiC per processo di incisione ICP

Accettore per MOCVD

Suscettore in silicio monocristallino

Recettore dell'epitassia del carburo di silicio

Componenti in grafite rivestita in SiC

Realizzato in grafite con rivestimento in carburo di silicio (SiC), il rivestimento viene applicato con un metodo CVD a gradi specifici di grafite ad alta densità, in modo che possa funzionare nel forno ad alta temperatura con oltre 3000 °C in atmosfera inerte, 2200 °C sotto vuoto .

Le proprietà speciali e la massa ridotta del materiale consentono velocità di riscaldamento elevate, distribuzione uniforme della temperatura e straordinaria precisione di controllo.

Dati sui materiali del rivestimento Semicorex SiC

Proprietà tipiche	Unità	Valori
Struttura		Fase β dell'FCC
Orientamento	Frazione (%)	111 preferito
Densità apparente	g/cm³	3.21
Durezza	Durezza Vickers	2500
Capacità termica	J kg-1 K-1	640
Espansione termica 100–600 °C (212–1112 °F)	10-6K-1	4.5
Modulo di Young	Gpa (curvatura 4 punti, 1300 ℃)	430
Granulometria	µm	2~10
Temperatura di sublimazione	℃	2700
Forza flessionale	MPa (RT 4 punti)	415
Conduttività termica	(W/mK)	300

Conclusione Il suscettore rivestito in SiC CVD è un materiale composito che combina le proprietà di un suscettore e di carburo di silicio. Questo materiale possiede proprietà uniche, tra cui resistenza alle alte temperature e agli agenti chimici, eccellente resistenza all'usura, elevata conduttività termica ed elevata resistenza e rigidità. Queste proprietà lo rendono un materiale interessante per varie applicazioni ad alta temperatura, tra cui la lavorazione dei semiconduttori, la lavorazione chimica, il trattamento termico, la produzione di celle solari e la produzione di LED.

View as

Supporti per wafer con rivestimento SiC

I supporti per wafer Semicorex con rivestimento SiC, parte integrante del sistema di crescita epitassiale, si distinguono per la sua eccezionale purezza, resistenza a temperature estreme e robuste proprietà di tenuta, fungendo da vassoio essenziale per il supporto e il riscaldamento dei wafer semiconduttori durante il fase critica della deposizione dello strato epitassiale, ottimizzando così le prestazioni complessive del processo MOCVD. Noi di Semicorex ci dedichiamo alla produzione e alla fornitura di supporti per wafer ad alte prestazioni con rivestimento SiC che fondono la qualità con l'efficienza dei costi.

Per saperne di più Invia richiesta

Portatore epitassia GaN

Il Semicorex GaN Epitaxy Carrier è fondamentale nella produzione di semiconduttori, integrando materiali avanzati e ingegneria di precisione. Caratterizzato dal rivestimento CVD SiC, questo supporto offre eccezionale durata, efficienza termica e capacità protettive, affermandosi come uno dei prodotti di punta nel settore. Noi di Semicorex ci dedichiamo alla produzione e alla fornitura di trasportatori epitassiali GaN ad alte prestazioni che fondono la qualità con l'efficienza dei costi.

Per saperne di più Invia richiesta

Disco wafer rivestito in SiC

Il disco wafer rivestito in SiC Semicorex rappresenta un progresso importante nella tecnologia di produzione dei semiconduttori, svolgendo un ruolo essenziale nel complesso processo di fabbricazione dei semiconduttori. Progettato con meticolosa precisione, questo disco è realizzato in grafite rivestita in SiC di qualità superiore, offrendo prestazioni e durata eccezionali per le applicazioni di epitassia al silicio. Noi di Semicorex ci dedichiamo alla produzione e alla fornitura di dischi wafer rivestiti in SiC ad alte prestazioni che fondono la qualità con l'efficienza dei costi.

Per saperne di più Invia richiesta

Vassoio per wafer SiC

Il vassoio per wafer Semicorex SiC è una risorsa vitale nel processo MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition), meticolosamente progettato per supportare e riscaldare i wafer semiconduttori durante la fase essenziale della deposizione dello strato epitassiale. Questo vassoio è parte integrante della produzione di dispositivi a semiconduttore, dove la precisione della crescita degli strati è della massima importanza. Noi di Semicorex ci dedichiamo alla produzione e alla fornitura di vassoi per wafer SiC ad alte prestazioni che fondono la qualità con l'efficienza dei costi.

Per saperne di più Invia richiesta

Suscettori MOCVD

I suscettori MOCVD di Semicorex incarnano l'apice della maestria artigianale, della resistenza e dell'affidabilità per complesse attività di epitassia in grafite e precise operazioni di gestione dei wafer. Questi suscettori sono rinomati per la loro alta densità, eccezionale planarità e controllo termico superiore, che li rendono la scelta migliore per ambienti di produzione esigenti. Noi di Semicorex ci dedichiamo alla produzione e alla fornitura di suscettori MOCVD ad alte prestazioni che fondono la qualità con l'efficienza dei costi.

Per saperne di più Invia richiesta

Piastra per crescita epitassiale

La piastra Semicorex per la crescita epitassiale rappresenta un elemento critico appositamente progettato per soddisfare le complessità dei processi epitassiali. Personalizzabile per soddisfare specifiche e preferenze distinte, la nostra offerta offre una soluzione su misura che si adatta perfettamente alle vostre esigenze operative specifiche. Offriamo una gamma di opzioni di personalizzazione, dalle modifiche dimensionali alle variazioni nell'applicazione del rivestimento, permettendoci di progettare e fornire un prodotto in grado di migliorare le prestazioni in vari scenari applicativi. Noi di Semicorex ci dedichiamo alla produzione e alla fornitura di piastre ad alte prestazioni per la crescita epitassiale che fondono la qualità con l'efficienza dei costi.

Per saperne di più Invia richiesta

<...6 7 8 9 10...27 >

Semicorex produce Rivestito in carburo di silicio da molti anni ed è uno dei produttori e fornitori Rivestito in carburo di silicio professionali in Cina. Una volta acquistati i nostri prodotti avanzati e durevoli che forniscono imballaggi sfusi, garantiamo la grande quantità in consegna rapida. Nel corso degli anni, abbiamo fornito ai clienti un servizio personalizzato. I clienti sono soddisfatti dei nostri prodotti e del servizio eccellente. Non vediamo l'ora di diventare il vostro partner commerciale affidabile a lungo termine! Benvenuti a comprare prodotti dalla nostra fabbrica.