Semicorex presenta il suo suscettore a disco SiC, progettato per migliorare le prestazioni delle apparecchiature per l'epitassia, la deposizione chimica in fase vapore metallo-organica (MOCVD) e il trattamento termico rapido (RTP). Il suscettore del disco SiC meticolosamente progettato offre proprietà che garantiscono prestazioni, durata ed efficienza superiori in ambienti ad alta temperatura e sotto vuoto.**
Con un profondo impegno per la qualità e l'innovazione, il suscettore del disco SiC ultra puro di Semicorex stabilisce un nuovo standard per le prestazioni nelle apparecchiature epitassia, MOCVD e RTP. Combinando un'eccezionale resistenza allo shock termico, una conduttività termica superiore, un'eccezionale resistenza chimica e una purezza ultraelevata, questi componenti ingegnerizzati consentono ai produttori di semiconduttori di ottenere efficienza, affidabilità e qualità del prodotto senza precedenti. Le soluzioni personalizzabili di Semicorex garantiscono inoltre che ogni applicazione di trattamento termico tragga vantaggio da componenti ottimizzati e progettati con precisione progettati per soddisfare le sue esigenze specifiche.
Eccezionale resistenza agli shock termici:Il suscettore del disco SiC eccelle nel resistere alle rapide fluttuazioni di temperatura, comuni nell'RTP e in altri processi ad alta temperatura. Questa eccezionale resistenza agli shock termici garantisce integrità strutturale e longevità, riducendo al minimo il rischio di danni o guasti dovuti a improvvisi sbalzi di temperatura e migliorando l'affidabilità delle apparecchiature di trattamento termico.
Conduttività termica superiore:Un trasferimento di calore efficiente è fondamentale nelle applicazioni di trattamento termico. L'eccellente conduttività termica del susceptor a disco SiC garantisce un riscaldamento e un raffreddamento rapidi e uniformi, essenziali per un controllo preciso della temperatura e l'uniformità del processo. Ciò porta a una migliore efficienza del processo, tempi di ciclo ridotti e wafer semiconduttori di qualità superiore.
Eccezionale resistenza chimica:Il suscettore del disco SiC offre un'eccezionale resistenza a un'ampia gamma di sostanze chimiche corrosive e reattive utilizzate nei processi epitassia, MOCVD e RTP. Questa inerzia chimica protegge la grafite sottostante dal degrado, previene la contaminazione dell'ambiente di processo e garantisce prestazioni costanti per periodi operativi prolungati.
Purezza ultraelevata: Il Susceptor del disco SiC è prodotto secondo standard di purezza estremamente elevati sia per il rivestimento in grafite che in SiC, evitando il potenziale di contaminazione e garantendo la produzione di dispositivi a semiconduttore privi di difetti. Questo impegno per la purezza significa rendimenti più elevati e prestazioni migliorate del dispositivo.
Disponibilità di forme complesse:Le capacità produttive avanzate di Semicorex consentono la produzione del suscettore del disco SiC in forme complesse su misura per le specifiche esigenze del cliente. Questa flessibilità consente la progettazione di soluzioni personalizzate che soddisfano le precise esigenze di varie applicazioni di trattamento termico, migliorando l'efficienza del processo e la compatibilità delle apparecchiature.
Utilizzabile in atmosfere ossidanti:Il robusto rivestimento CVD SiC fornisce un'eccellente protezione contro l'ossidazione, consentendo al suscettore del disco SiC di funzionare in modo affidabile in ambienti ossidanti. Ciò espande la loro applicabilità a una gamma più ampia di processi termici, garantendo versatilità e adattabilità.
Prestazioni robuste e ripetibili:Progettato per ambienti ad alta temperatura e sotto vuoto, il susceptor a disco SiC offre prestazioni robuste e ripetibili. La sua durata e consistenza li rendono ideali per applicazioni critiche di trattamento termico, riducendo i tempi di fermo, i costi di manutenzione e garantendo affidabilità operativa a lungo termine.
Semicorex è specializzata nella personalizzazione di componenti rivestiti in SiC CVD per soddisfare le diverse esigenze delle apparecchiature di trattamento termico, tra cui:
Diffusori:Migliorare l'uniformità della distribuzione del gas e la coerenza del processo.
Isolanti:Fornire isolamento termico e protezione in ambienti ad alta temperatura.
Altri componenti termici personalizzati:Soluzioni su misura progettate per soddisfare requisiti di processo specifici e ottimizzare le prestazioni delle apparecchiature.