Piedistallo in silicone

Il piedistallo di silicio Semicorex, un componente spesso trascurato ma di fondamentale importanza, svolge un ruolo vitale nel raggiungere risultati precisi e ripetibili in processi di diffusione e ossidazione dei semiconduttori. La piattaforma specializzata, su cui si riposano le barche in silicio all'interno di forni ad alta temperatura, offre vantaggi unici che contribuiscono direttamente alla maggiore uniformità della temperatura, migliorano la qualità del wafer e, in definitiva, prestazioni del dispositivo a semiconduttore superiori. **

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Descrizione del prodotto

1. Piedistallo in silicio Semicorex che stabilizza l'ambiente di lavorazione per risultati ottimali:

Creazione di una base stabile per le barche in cristallo:Il piedistallo in silicio fornisce una piattaforma robusta e termicamente stabile per le imbarcazioni in silicio all'interno della camera del forno ad alta temperatura. Questa stabilità garantisce che le imbarcazioni mantengano la loro posizione e orientamento durante tutto il processo, prevenendo movimenti o inclinazioni indesiderate che potrebbero interrompere la dinamica del flusso di gas e compromettere l'uniformità della temperatura.

Miglioramento dell'uniformità della temperatura all'interno della camera di reazione:Isolando efficacemente la vaschetta in silicio dal fondo e dalle pareti del forno, il piedistallo in silicio riduce al minimo la perdita di calore per conduzione e favorisce una distribuzione più uniforme della temperatura all'interno del tubo di reazione termica. Questa capacità di gestione termica migliorata è fondamentale per ottenere profili di diffusione o ossidazione coerenti e ripetibili sull'intera superficie del wafer.

Aumentare l’efficienza dell’isolamento per un utilizzo energetico ottimizzato:Le proprietà intrinseche di isolamento termico del piedistallo in silicone contribuiscono a un processo più efficiente dal punto di vista energetico riducendo al minimo la perdita di calore nell'ambiente circostante. Ciò si traduce in cicli di riscaldamento e raffreddamento più rapidi, consumo energetico ridotto e, in definitiva, costi di lavorazione complessivi inferiori.

2. Sinergia materiale per qualità del wafer superiore:

Adattamento dell'espansione termica per ridurre lo stress del wafer:Il piedistallo in silicio, realizzato con lo stesso materiale di silicio ad elevata purezza delle barchette e dei wafer stessi, offre un vantaggio cruciale rispetto a materiali alternativi come il quarzo o il carburo di silicio. Questa sinergia di materiali garantisce che il piedistallo, la barca e i wafer si espandano e si contraggano a velocità quasi identiche durante i cicli di riscaldamento e raffreddamento, riducendo al minimo il rischio di stress termico, piegamento dei wafer e difetti cristallografici che possono influire negativamente sulla resa e sulle prestazioni del dispositivo.

Minimizzazione della contaminazione e delle discrepanze del reticolo:L'uso di silicio ad elevata purezza sia per il piedistallo in silicio che per la barca elimina il rischio di contaminazione da materiali diversi, garantendo un ambiente di lavorazione incontaminato per i wafer. Questa compatibilità dei materiali riduce inoltre al minimo il rischio di disallineamenti del reticolo nell'interfaccia wafer-boat, contribuendo ulteriormente a migliorare la qualità dei cristalli e a ridurre la densità dei difetti.