Mandrino a vuoto SiC

Semicorex SiC Vacuum Chuck è uno strumento appositamente progettato che trattiene saldamente i wafer semiconduttori durante le fasi critiche di lavorazione con la massima stabilità e affidabilità. Il rivestimento SiC CVD del mandrino a vuoto SiC fornisce eccezionale resistenza meccanica, resistenza chimica e stabilità termica, garantendo che i wafer delicati siano protetti da qualsiasi potenziale danno o contaminazione.

La combinazione unica di grafite e rivestimento SiC del mandrino per vuoto SiC offre un'elevata conduttività termica e un coefficiente minimo di dilatazione termica. Ciò consente un'efficiente dissipazione del calore e una distribuzione uniforme della temperatura sulla superficie del wafer. Queste caratteristiche sono essenziali per mantenere condizioni di lavorazione ottimali e migliorare la resa nei processi di fabbricazione dei semiconduttori.

Il mandrino sottovuoto SiC è compatibile anche con gli ambienti sottovuoto, garantendo un'adesione superiore tra il mandrino e il wafer. Ciò elimina il rischio di slittamento o disallineamento durante le operazioni di alta precisione. La sua superficie non porosa e le proprietà inerti prevengono ulteriormente qualsiasi degassamento o contaminazione da particelle, salvaguardando la purezza e l'integrità dell'ambiente di produzione dei semiconduttori.

Semicorex SiC Vacuum Chuck è una tecnologia fondamentale nella produzione di semiconduttori, che offre prestazioni e durata senza precedenti per soddisfare le esigenze in continua evoluzione del settore. Sia che venga utilizzata nella litografia, nell'incisione, nella deposizione o in altri processi critici, questa soluzione avanzata continua a ridefinire gli standard di eccellenza nella gestione e lavorazione dei wafer semiconduttori.