Tubo di processo SiC

Il tubo di processo Semicorex SiC (carburo di silicio) è un componente specializzato utilizzato nei processi di trattamento termico dei wafer, in particolare nelle applicazioni che richiedono temperature elevate, atmosfere corrosive o entrambe. È progettato per fornire un ambiente protettivo e controllato per i wafer semiconduttori durante il trattamento termico o la lavorazione termica.

Il tubo di processo è accuratamente progettato per creare una camera sigillata in cui i wafer vengono posizionati per il trattamento termico. Funge da barriera, impedendo il contatto diretto dei wafer con l'ambiente circostante. Questo isolamento è fondamentale per mantenere la purezza dell'atmosfera di lavorazione e proteggere i wafer dalla contaminazione.

All'interno del tubo di processo SiC avviene il trattamento termico del wafer. Ciò può includere vari processi come la ricottura, l'ossidazione, la diffusione e altri trattamenti termici necessari per modificare le proprietà del materiale del wafer. Le proprietà del tubo, come l'elevata conduttività termica e la resistenza agli attacchi chimici, contribuiscono a garantire una distribuzione uniforme della temperatura e la protezione dei wafer.

I tubi di processo in SiC sono componenti critici nei processi di trattamento termico dei wafer. La loro resistenza alle alte temperature, l'inerzia chimica e la capacità di creare un ambiente controllato assicurano l'esecuzione corretta delle fasi di lavorazione termica, portando alla produzione di wafer semiconduttori di alta qualità.