La polvere fine SiC Semicorex è una polvere ultrafine di alta qualità nota per la sua eccezionale purezza e la distribuzione controllata delle dimensioni delle particelle. Semicorex si impegna a fornire prodotti di qualità a prezzi competitivi, non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.
La polvere fine SiC Semicorex è una polvere ultrafine di alta qualità nota per la sua eccezionale purezza e la distribuzione controllata delle dimensioni delle particelle. Questa polvere fine SiC è composta prevalentemente da cristalli di carburo di silicio di tipo N in fase alfa, garantendo proprietà del materiale e prestazioni superiori in varie applicazioni.
La polvere fine di SiC presenta elevati livelli di purezza, riducendo al minimo le impurità e garantendo coerenza nella composizione del materiale. Progettata con un drogaggio controllato di azoto (N), la polvere presenta una conduttività di tipo N, che la rende adatta per applicazioni che richiedono proprietà dei semiconduttori. La polvere fine SiC presenta una distribuzione granulometrica ristretta, che consente una dispersione uniforme e una maggiore compattezza del materiale in vari processi di produzione.
Applicazioni:
Lappatura di ceramica, cristallo, quarzo, vetro, ecc
Taglio con sega a filo di silicio per semiconduttori, cristalli, quarzo, ecc
Materiale della mola resinoide, della mola vetrificata e della mola in PVA
Materiale di ceramica e parti sinterizzate
Materiale riempitivo radiante
Materiali di rivestimento e placcatura compositi
Caratteristiche
Modello | Purezza | Densità dell'imballaggio | D10 | D50 | D90 |
SiC-N-S | >6N | <1,7 g/cm3 | 100μm | 300μm | 500μm |
SiC-N-M | >6N | <1,3 g/cm3 | 500μm | 1000μm | 2000μm |
SiC-N-L | >6N | <1,3 g/cm3 | 1000μm | 1500μm | 2500μm |
Semicorex SiC Fine Powder rappresenta una soluzione di materiale premium che offre purezza eccezionale, controllo preciso sulle proprietà e applicabilità versatile in vari settori. La sua combinazione di caratteristiche di alta qualità lo rende la scelta preferita per applicazioni impegnative nella produzione di semiconduttori, ceramiche avanzate, materiali refrattari, abrasivi e sistemi di supporto catalizzatori, tra gli altri.