Fin

Semicorex SiC Fin è un componente ad alte prestazioni inceramicaa al carburo di silicio, è progettato per l'uso nell'epitassia e nei sistemi di attacco dei semiconduttori. Progettata come un pezzo circolare a forma di disco con vari fori di diverso diametro, la SiC Fin è un componente fondamentale per la modellazione del flusso dei materiali e la gestione degli scarichi di gas o effluenti liquidi durante la lavorazione ad alta temperatura o al plasma. Grazie alle sue prestazioni strutturali, all'eccellente resistenza alla corrosione e all'elevata stabilità termica, la pinna SiC è fondamentale per la produzione avanzata di semiconduttori.

La pinna SiC è prodotta con elevata purezzacarburo di siliciopolvere utilizzando processi avanzati di formatura e sinterizzazione. Pertanto, ha un'eccellente resistenza meccanica e stabilità in condizioni termiche e chimiche elevate. Le proprietà fisiche uniche del carburo di silicio, quali elevata durezza, bassa espansione termica ed eccellente inerzia chimica, consentono all'aletta di essere un componente strutturale in ambienti con plasma o gas reattivi ad alta temperatura, caratteristici dei processi EPI e di attacco.

La struttura a disco del componente, completa di fori praticati con precisione, consente flussi controllati di gas e liquidi attraverso le camere di processo. A seconda dell'applicazione, i fori possono essere configurati per gestire il flusso dei sottoprodotti o il drenaggio per un ambiente pulito e stabile durante il processo dei wafer. In un'applicazione epitassia, ad esempio, la pinna SiC può aiutare a dirigere i gas di processo o i flussi di condensa, migliorando così l'uniformità della pellicola e riducendo al minimo la contaminazione da particelle. Negli strumenti di incisione, è efficace per la rimozione sicura ed efficiente di specie reattive e sottoprodotti liquidi, proteggendo i componenti vulnerabili della camera dalla degradazione chimica.

Ogni pinna SiC Semicorex è prodotta con tolleranze molto strette e lucidata per offrire un'eccellente planarità superficiale e precisione dimensionale. Questa precisione di produzione garantisce prestazioni affidabili se integrato in sistemi complicati e mantiene funzionalità costanti per lunghi periodi di funzionamento. La pinna SiC è compatibile con tutti i modelli di reattore e può essere realizzata su misura in diametro, spessore e modello di foro per soddisfare le esigenze del cliente. Semicorex può offrire progetti personalizzati per ottimizzare le prestazioni per variabili di processo quali portata, geometria della camera e temperatura.

Oltre alla sua funzionalità versatile, la pinna SiC ha una durata e una longevità eccezionali rispetto ad altri materiali. È altamente resistente all'ossidazione, all'erosione del plasma e alla corrosione chimica, il che riduce la frequenza di sostituzione delle parti e i tempi di fermo del sistema. Inoltre, la conduttività termica del carburo di silicio consente alla capacità di dissipazione del calore di gestire i gradienti termici nel dispositivo, evitando deformazioni o crepe indesiderate durante i rapidi cicli di temperatura.

Semicorex utilizza avanzaticeramicacapacità di lavorazione e rivestimento CVD per fornire la massima purezza e consistenza della pinna SiC prodotta. Ogni aletta SiC viene inoltre ispezionata per verificarne la densità, l'uniformità della microstruttura e la perfezione della superficie per garantire che soddisfi i severi requisiti dell'industria dei semiconduttori. Ciò si traduce in un componente che presenta integrità meccanica e robustezza per un funzionamento stabile a lungo termine in ambienti estremi.

La pinna Semicorex SiC è il risultato di una scienza dei materiali e di una tecnologia ingegneristica all'avanguardia. Non solo produce gas di scarico e flussi di liquidi efficaci, ma contribuisce alla pulizia e all'affidabilità dell'intero sistema di epitassia e incisione. Combina resistenza meccanica, stabilità termica e longevità alla corrosione per fornire un'esperienza più coerente per le applicazioni di lavorazione dei semiconduttori.