Semicorex è un produttore e fornitore su larga scala di suscettore di grafite rivestito in carburo di silicio in Cina. Ci concentriamo sulle industrie dei semiconduttori come strati di carburo di silicio e semiconduttori epitassia. Il nostro effettore finale SiC ha un buon vantaggio in termini di prezzo e copre molti mercati europei e americani. Non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.
L'effettore finale Semicorex SiC è realizzato in grafite con rivestimento in carburo di silicio (SiC), il rivestimento viene applicato con un metodo CVD a gradi specifici di grafite ad alta densità, quindi può funzionare nel forno ad alta temperatura con oltre 3000 °C in un'atmosfera inerte, 2200°C sotto vuoto.
Il nostro effettore finale SiC è progettato per ottenere il miglior modello di flusso di gas laminare, garantendo l'uniformità del profilo termico. Ciò aiuta a prevenire qualsiasi contaminazione o diffusione di impurità, garantendo una crescita epitassiale di alta qualità sul chip wafer.
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Parametri dell'effettore finale SiC
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Specifiche principali del rivestimento CVD-SIC |
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Proprietà SiC-CVD |
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Struttura cristallina |
Fase β dell'FCC |
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Densità |
g/cm³ |
3.21 |
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Durezza |
Durezza Vickers |
2500 |
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Granulometria |
µm |
2~10 |
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Purezza chimica |
% |
99.99995 |
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Capacità termica |
J kg-1 K-1 |
640 |
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Temperatura di sublimazione |
℃ |
2700 |
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Forza flessionale |
MPa (RT 4 punti) |
415 |
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Modulo di Young |
Gpa (curvatura 4 punti, 1300 ℃) |
430 |
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Dilatazione Termica (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
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Conduttività termica |
(W/mK) |
300 |
Caratteristiche dell'effettore finale SiC
- Evitare il distacco e garantire il rivestimento su tutta la superficie
Resistenza all'ossidazione alle alte temperature: Stabile alle alte temperature fino a 1600°C
Elevata purezza: prodotto mediante deposizione chimica di vapore CVD in condizioni di clorazione ad alta temperatura.
Resistenza alla corrosione: elevata durezza, superficie densa e particelle fini.
Resistenza alla corrosione: acidi, alcali, sale e reagenti organici.
- Ottieni il miglior modello di flusso di gas laminare
- Garantire l'uniformità del profilo termico
- Evitare qualsiasi contaminazione o diffusione di impurità


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