Tubo per forno a diffusione SiC

Elevata resistenza alla flessione: il tubo del forno a diffusione Semicorex SiC vanta una resistenza alla flessione superiore a 200 MPa, garantendo prestazioni meccaniche eccezionali e integrità strutturale in condizioni di stress elevato tipiche dei processi di produzione di semiconduttori.

Eccezionale resistenza all'ossidazione: questi tubi per forno a diffusione SiC presentano una resistenza all'ossidazione superiore, la migliore tra tutte le ceramiche non ossidanti. Questa caratteristica garantisce stabilità e prestazioni a lungo termine in ambienti ad alta temperatura, riducendo il rischio di degrado e prolungando la vita operativa dei tubi.

Eccellente resistenza alla corrosione: l'inerzia chimica del tubo del forno a diffusione SiC fornisce un'eccellente resistenza alla corrosione, rendendo questi tubi ideali per l'uso in ambienti chimici difficili spesso incontrati nella lavorazione dei semiconduttori.

Elevata resistenza all'usura: il tubo del forno a diffusione SiC è altamente resistente all'usura, il che è fondamentale per mantenere la stabilità dimensionale e ridurre le esigenze di manutenzione per periodi di utilizzo prolungati in condizioni abrasive.

Basso coefficiente di attrito: il basso coefficiente di attrito del tubo del forno a diffusione SiC riduce l'usura sia dei tubi che dei wafer, garantendo un funzionamento regolare e minimizzando i rischi di contaminazione durante la lavorazione dei semiconduttori.

Proprietà meccaniche superiori alle alte temperature: il tubo del forno a diffusione SiC dimostra le migliori proprietà meccaniche alle alte temperature tra i materiali ceramici conosciuti, tra cui eccezionale robustezza e resistenza allo scorrimento viscoso. Ciò lo rende particolarmente adatto per applicazioni che richiedono stabilità a lungo termine a temperature elevate.

Con rivestimento CVD: il rivestimento SiC Semicorex Chemical Vapor Deposition (CVD) raggiunge un livello di purezza superiore al 99,9995%, con un contenuto di impurità inferiore a 5 ppm e impurità metalliche nocive inferiori a 1 ppm. Il processo di rivestimento CVD garantisce che i tubi soddisfino i severi requisiti di tenuta al vuoto di 2-3Torr, essenziali per gli ambienti di produzione di semiconduttori ad alta precisione.

Applicazione nei forni a diffusione: questi tubi per forni a diffusione SiC sono progettati specificamente per l'uso in forni a diffusione, dove svolgono un ruolo fondamentale nei processi ad alta temperatura come il drogaggio e l'ossidazione. Le loro proprietà avanzate dei materiali garantiscono che possano resistere alle difficili condizioni di questi processi, migliorando così l'efficienza e l'affidabilità della produzione di semiconduttori.