Barca di diffusione SiC

Con proprietà del materiale di alta qualità, Semicorex SiC Diffusion Boat rappresenta una funzionalità ottimale in un ampio spettro di parametri operativi: durezza, resilienza e resistenza termica e chimica, ecc. Questa scelta del materiale è fondamentale per ridurre i rischi di contaminazione, proteggere i wafer e resistere al condizioni impegnative presenti nei processi di fabbricazione dei semiconduttori. Noi di Semicorex ci dedichiamo alla produzione e alla fornitura di barche di diffusione SiC ad alte prestazioni che fondono la qualità con l'efficienza dei costi.**

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Descrizione del prodotto

Ecco uno sguardo dettagliato ai vantaggi di SiC Diffusion Boat:

Stabilità strutturale e resistenza termica: Semicorex SiC Diffusion Boat offre eccezionale stabilità termica e integrità dimensionale alle alte temperature, rendendoli altamente vantaggiosi per l'uso in applicazioni di lavorazione e trattamento termico ad alta temperatura.

Eccellente resistenza alla corrosione: la SiC Diffusion Boat dimostra un'eccezionale resistenza alla corrosione, garantendo prestazioni prolungate in condizioni chimiche e ambientali difficili.

Materiale di elevata purezza: la barca di diffusione SiC è realizzata con una matrice di elevata purezza e una pellicola di carburo di silicio, prevenendo efficacemente l'introduzione di impurità e riducendo la contaminazione nel processo di produzione. Questa elevata purezza contribuisce in modo significativo al miglioramento della qualità del prodotto.

Bassa densità: il SiC Diffusion Boat possiede una densità relativamente bassa rispetto a molti altri materiali, rendendoli leggeri e facilmente maneggevoli durante la movimentazione e la lavorazione.

Applicazione versatile: la barca di diffusione SiC è particolarmente adatta per componenti portanti critici in apparecchiature fotovoltaiche e semiconduttori, in particolare nei processi di gestione dei wafer.

Utilizzo in forni verticali per semiconduttori: Semicorex SiC Diffusion Boat viene utilizzato principalmente in forni verticali per semiconduttori per processi di ossidazione e ricottura ad alta temperatura. Questa applicazione evidenzia il loro ruolo cruciale nel facilitare queste specifiche procedure di produzione di semiconduttori.