Braccio robotico in ceramica SiC

Ceramica SiCbraccio roboticoviene utilizzato in molteplici processi di produzione di wafer semiconduttori, svolgendo un ruolo importante nel garantire la qualità e l'efficienza della fabbricazione dei wafer. Viene comunemente installato all'interno e all'esterno delle camere di varie apparecchiature front-end per semiconduttori, come macchine per incisione, apparecchiature per deposizione, macchine per litografia, apparecchiature per la pulizia, partecipando direttamente alla movimentazione e al posizionamento dei wafer semiconduttori. 

I wafer semiconduttori sono facilmente contaminati da particelle, quindi i relativi processi di produzione vengono eseguiti principalmente in apparecchiature per semiconduttori pulite e sotto vuoto. Nel funzionamento reale, in quanto componente essenziale di tali apparecchiature, il braccio robotico in ceramica SiC entra in contatto diretto con i wafer semiconduttori e deve inoltre soddisfare requisiti di pulizia estremamente elevati. Il braccio robotico ceramico SiC di Semicorex è realizzato in ceramica al carburo di silicio ad alte prestazioni seguita da un trattamento di finitura superficiale e pulizia di precisione, in grado di soddisfare con precisione i severi requisiti della produzione di semiconduttori in termini di pulizia e planarità della superficie. Ciò contribuisce in modo significativo a ridurre i difetti dei wafer e a migliorare la resa della produzione dei wafer.

Ceramica SiCil braccio robotico è l'opzione ottimale per le procedure di trattamento termico come ricottura, ossidazione e diffusione. Grazie all'eccezionale stabilità termica e alla superiore resistenza agli shock termici dei materiali in carburo di silicio, il braccio robotico in ceramica SiC è in grado di funzionare in modo affidabile per periodi di tempo prolungati in condizioni di alta temperatura. Può resistere all'influenza dell'espansione termica e preservare la sua integrità strutturale sotto stress termico, garantendo così la precisione costante del posizionamento del wafer.

Grazie alla sua robusta resistenza ai gas e ai liquidi corrosivi, il braccio robotico in ceramica SiC può mantenere stabilmente le sue prestazioni anche se esposto ad atmosfere di processo corrosive aggressive come l'incisione, la deposizione di film sottile e l'impianto di ioni. Queste prestazioni di resistenza alla corrosione migliorano l'efficienza della produzione di wafer semiconduttori riducendo efficacemente il rischio di danni ai componenti legati alla corrosione e riducendo la necessità di frequenti sostituzioni e manutenzioni.