Semicorex è un produttore indipendente leader di grafite rivestita di carburo di silicio, grafite ad alta purezza lavorata con precisione, incentrata sulle aree di produzione di semiconduttori di grafite rivestita di carburo di silicio, ceramica di carburo di silicio e MOCVP. Il nostro Robot End Effector ha un buon vantaggio di prezzo e copre molti dei mercati europei e americani. Non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.
Robot End Effector è la mano del robot che sposta i wafer semiconduttori tra le posizioni nelle apparecchiature di elaborazione dei wafer e nei supporti. Robot End Effector deve essere dimensionalmente preciso e termicamente stabile, pur avendo una superficie liscia e resistente all'abrasione per maneggiare in sicurezza i wafer senza danneggiare i dispositivi o produrre contaminazione da particolato. Il nostro rivestimento in carburo di silicio (SiC) ad alta purezza Robot End Effector offre una resistenza al calore superiore, uniformità termica uniforme per uno spessore e una resistenza costanti dello strato epi e una resistenza chimica duratura.
Parametri di Robot End Effector
Principali specifiche del rivestimento CVD-SIC |
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Proprietà SiC-CVD |
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Struttura di cristallo |
FCC fase β |
|
Densità |
g/cm³ |
3.21 |
Durezza |
Durezza Vickers |
2500 |
Granulometria |
μm |
2~10 |
Purezza chimica |
% |
99.99995 |
Capacità termica |
J·kg-1 ·K-1 |
640 |
Temperatura di sublimazione |
℃ |
2700 |
Resistenza alla flessione |
MPa (RT 4 punti) |
415 |
Modulo di Young |
Gpa (curva 4pt, 1300℃) |
430 |
Espansione termica (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
Conduttività termica |
(W/mK) |
300 |
Caratteristiche di Robot End Effector
Grafite rivestita di SiC di elevata purezza
Resistenza al calore superiore e uniformità termica
Fine rivestimento in cristallo SiC per una superficie liscia
Elevata durabilità contro la pulizia chimica
Il materiale è progettato in modo che non si verifichino crepe e delaminazioni.