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Piastra portante in grafite RTP

Piastra portante in grafite RTP

La piastra portante in grafite RTP di Semicorex è la soluzione perfetta per le applicazioni di elaborazione di wafer semiconduttori, inclusa la crescita epitassiale e l'elaborazione di manipolazione di wafer. Il nostro prodotto è progettato per offrire una resistenza al calore e un'uniformità termica superiori, assicurando che i suscettori dell'epitassia siano soggetti all'ambiente di deposizione, con elevata resistenza al calore e alla corrosione.

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Supporto rivestito in SiC RTP RTA

Supporto rivestito in SiC RTP RTA

Semicorex è un produttore e fornitore su larga scala di suscettori di grafite rivestiti in carburo di silicio in Cina. Suscettore di grafite Semicorex progettato specificamente per apparecchiature epitassia con elevata resistenza al calore e alla corrosione in Cina. Il nostro RTP RTA SiC Coated Carrier ha un buon vantaggio di prezzo e copre molti dei mercati europei e americani. Non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine.

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Carrier RTP per la crescita epitassiale MOCVD

Carrier RTP per la crescita epitassiale MOCVD

Semicorex RTP Carrier per la crescita epitassiale MOCVD è ideale per applicazioni di elaborazione di wafer semiconduttori, inclusa la crescita epitassiale e l'elaborazione di manipolazione di wafer. I suscettori di grafite di carbonio e i crogioli di quarzo vengono lavorati da MOCVD sulla superficie di grafite, ceramica, ecc. I nostri prodotti hanno un buon vantaggio di prezzo e coprono molti dei mercati europei e americani. Non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.

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Supporto per wafer per incisione ICP

Supporto per wafer per incisione ICP

Il porta wafer per incisione ICP di Semicorex è la soluzione perfetta per i processi di manipolazione dei wafer ad alta temperatura come epitassia e MOCVD. Con una resistenza all'ossidazione stabile e ad alta temperatura fino a 1600°C, i nostri supporti assicurano profili termici uniformi, schemi di flusso laminare del gas e prevengono la contaminazione o la diffusione di impurità.

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Barrel Susceptor Epi System per epitassia LPE

Barrel Susceptor Epi System per epitassia LPE

Semicorex Barrel Susceptor Epi System per LPE L'epitassia è un prodotto di alta qualità che offre un'adesione del rivestimento superiore, elevata purezza e resistenza all'ossidazione ad alta temperatura. Il suo profilo termico uniforme, il modello di flusso laminare del gas e la prevenzione della contaminazione lo rendono una scelta ideale per la crescita degli strati epissiali sui chip di wafer. La sua economicità e personalizzazione lo rendono un prodotto altamente competitivo sul mercato.

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Cilindro suscettore rivestito in SiC per camera del reattore LPE

Cilindro suscettore rivestito in SiC per camera del reattore LPE

Il Susceptor Barrel di Semicorex con rivestimento in SiC per la camera del reattore LPE è una soluzione altamente affidabile per i processi di produzione di semiconduttori, con proprietà di distribuzione del calore e conducibilità termica superiori. È anche altamente resistente alla corrosione, all'ossidazione e alle alte temperature.

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Vuoi acquistare Carbide-Coated-Susceptor avanzati e durevoli? Semicorex è sicuramente la tua buona scelta. Siamo conosciuti come uno dei produttori e fornitori Carbide-Coated-Susceptor più competitivi in ​​Cina. Forniamo anche imballaggi sfusi. Potresti aver bisogno di alcuni servizi personalizzati per soddisfare le effettive esigenze della tua regione, puoi lasciarci un messaggio attraverso le informazioni di contatto sulla pagina web. Diamo il benvenuto sinceramente ai clienti vecchi e nuovi a visitare la nostra fabbrica per la consultazione e la negoziazione.
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