Prodotti

Quando si tratta di processi di gestione dei wafer come epitassia e MOCVD, il rivestimento SiC ad alta temperatura di Semicorex per camere di incisione al plasma è la scelta migliore. I nostri supporti garantiscono una resistenza al calore superiore, un'uniformità termica uniforme e una resistenza chimica duratura grazie al nostro sottile rivestimento in cristalli SiC.

La piastra SiC di Semicorex per il processo di incisione ICP è la soluzione perfetta per requisiti di lavorazione chimica aggressiva e ad alta temperatura nella deposizione di film sottile e nella gestione dei wafer. Il nostro prodotto vanta una resistenza al calore superiore e un'uniformità termica uniforme, garantendo spessore e resistenza costanti dello strato epi. Con una superficie pulita e liscia, il nostro rivestimento in cristallo SiC ad elevata purezza offre una gestione ottimale dei wafer incontaminati.

Supporto per incisione ICP rivestito in SiC Semicorex progettato specificamente per apparecchiature epitassia con elevata resistenza al calore e alla corrosione in Cina. I nostri prodotti hanno un buon vantaggio di prezzo e coprono molti mercati europei e americani. Non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.

I supporti per wafer utilizzati nella crescita epissiale e nella lavorazione della movimentazione dei wafer devono resistere a temperature elevate e a una pulizia chimica aggressiva. Supporto per incisione PSS rivestito in SiC Semicorex progettato specificamente per queste impegnative applicazioni di apparecchiature per epitassia. I nostri prodotti hanno un buon vantaggio di prezzo e coprono molti mercati europei e americani. Non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.

Il suscettore cilindrico rivestito in SiC Semicorex per la crescita epitassiale LPE è un prodotto ad alte prestazioni progettato per fornire prestazioni costanti e affidabili per un periodo prolungato. Il suo profilo termico uniforme, il modello di flusso del gas laminare e la prevenzione della contaminazione lo rendono la scelta ideale per la crescita di strati epitassiali di alta qualità su chip wafer. La sua personalizzazione e la sua convenienza lo rendono un prodotto altamente competitivo sul mercato.

Se stai cercando un suscettore in grafite ad alte prestazioni da utilizzare in applicazioni di produzione di semiconduttori, il suscettore a barilotto in grafite rivestito SiC Semicorex è la scelta ideale. Le sue eccezionali proprietà di conduttività termica e distribuzione del calore lo rendono la scelta ideale per prestazioni affidabili e costanti in ambienti corrosivi e ad alta temperatura.