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Semicorex è un produttore e fornitore professionale in Cina. La nostra fabbrica fornisce suscettore a botte, suscettore mocvd, barca wafer, ecc. Design estremo, materie prime di qualità, prestazioni elevate e prezzo competitivo sono ciò che ogni cliente desidera, ed è anche ciò che possiamo offrirti. Prendiamo l'alta qualità, il prezzo ragionevole e il servizio perfetto.

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Campo termico di grafite

Semicorex Graphite Thermal Field combina la scienza dei materiali all'avanguardia con una profonda conoscenza dei processi di crescita dei cristalli, offrendo una soluzione innovativa che consente all'industria dei semiconduttori di raggiungere nuovi livelli di prestazioni, efficienza e convenienza.**

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LPE SiC-Epi Halfmoon

Semicorex LPE SiC-Epi Halfmoon è una risorsa indispensabile nel mondo dell'epitassia, fornendo una soluzione solida alle sfide poste dalle alte temperature, dai gas reattivi e dai rigorosi requisiti di purezza.**

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Copertura con rivestimento CVD TaC

La copertura di rivestimento Semicorex CVD TaC è diventata una tecnologia abilitante fondamentale negli ambienti esigenti all'interno dei reattori epitassia, caratterizzati da alte temperature, gas reattivi e rigorosi requisiti di purezza, che richiedono materiali robusti per garantire una crescita coerente dei cristalli e prevenire reazioni indesiderate.**

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Strumenti di estrazione in silicio singolo in grafite

Gli strumenti di estrazione in silicio singolo in grafite Semicorex emergono come eroi non celebrati nel crogiolo ardente delle fornaci per la crescita dei cristalli, dove le temperature salgono alle stelle e la precisione regna sovrana. Le loro straordinarie proprietà, perfezionate attraverso una produzione innovativa, li rendono essenziali per ottenere l'esistenza di un perfetto silicio monocristallino.**

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Anello guida rivestimento TaC

L'anello guida del rivestimento Semicorex TaC funge da parte fondamentale all'interno delle apparecchiature di deposizione chimica in fase vapore metallo-organica (MOCVD), garantendo l'erogazione precisa e stabile dei gas precursori durante il processo di crescita epitassiale. L'anello guida del rivestimento TaC rappresenta una serie di proprietà che lo rendono ideale per resistere alle condizioni estreme che si trovano all'interno della camera del reattore MOCVD.**

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Segmento di copertura SiC MOCVD

L'impegno di Semicorex per la qualità e l'innovazione è evidente nel segmento di copertura SiC MOCVD. Consentendo un'epitassia SiC affidabile, efficiente e di alta qualità, svolge un ruolo fondamentale nel miglioramento delle capacità dei dispositivi a semiconduttore di prossima generazione.**

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