Suscettori del wafer rivestito di SIC

I suscettori del wafer rivestito di semicorex SIC sono progettati per soddisfare i requisiti di urgente per la produzione di semiconduttori avanzati, in particolare in sistemi di deposizione di film ultrasottili senza pressioni. Preciso di precisione, offrono prestazioni termiche superiori, durata chimica e stabilità meccanica, essenziali per gli ambienti di prossima generazione per l'elaborazione del film sottile.

Nelle tecniche di deposizione che non impiegano pressione, come la deposizione di strati atomici (ALD), la deposizione di vapore chimico (CVD) e la deposizione di vapore fisico (PVD) per film molto sottili, i requisiti principali sono una distribuzione uniforme della temperatura e una stabilità superficiale. L'unicità del nostro design del nostro suscettore sta nel fatto che incorpora un substrato poroso di alta purezza che gli consente di funzionare efficacemente in condizioni di vuoto o quasi Vacuum riducendo così lo stress termico e fornendo un trasferimento di energia uniforme sulla superficie del wafer.

La struttura a più buche è un'innovazione chiave: aiuta a ridurre la massa termica, promuove anche la distribuzione del flusso di gas e mitiga le fluttuazioni della pressione che potrebbero altrimenti compromettere l'uniformità della deposizione. Questa struttura contribuisce anche a cicli di aumento termico e di recupero più rapidi, migliorando il throughput complessivo e il controllo del processo.

Offriamo una gamma di dimensioni di suscettori, geometrie e livelli di porosità per abbinare vari progetti del sistema di deposizione e dimensioni del wafer. La natura modulare del nostro processo di produzione consente alla personalizzazione di soddisfare specifici requisiti termici, meccanici e chimici del processo di film sottile del cliente.

Il suscettore del wafer rivestito di semicorex SIC è una soluzione ad alte prestazioni su misura per le sfide uniche della deposizione di film ultrasottili senza pressioni. La sua combinazione di design strutturale poroso e un robusto rivestimento SIC fornisce un supporto ottimale per i processi di produzione di semiconduttori ad alta precisione, consentendo una migliore qualità del film, rese più elevate e costi operativi più bassi.