Chuck poroso Sic vuoto

Il manico a vuoto SIC Poroso Semicorex rappresenta una soluzione di manipolazione volta a raggiungere un posizionamento accurato e stabile di wafer durante tutte le fasi dell'elaborazione dei semiconduttori. Questo mandrino del vuoto ha un'ottima presa per la gestione dei wafer e le applicazioni di allineamento del substrato, migliorando così sia l'affidabilità che le prestazioni. Le scelte di materiale di base - SUS430, lega di alluminio 6061, ceramica di allumina densa, granito e ceramica in carburo di silicio - offrono la flessibilità dell'utente di scegliere il materiale ottimale in base ai requisiti individuali in prestazioni termiche, proprietà meccaniche o peso.

Migliore scelta del materiale: il fondo del mandrino del vuoto poroso SIC può essere modificato con materiali diversi per soddisfare le varie esigenze:

• SUS430: un'opzione economica che resiste bene alla ruggine per usi comuni.
• Alluminio in lega 6061: dà un mix di resistenza, peso leggero e ottima lavorabilità, rendendo bene la gestione normale dei wafer.
• Ceramica di allumina densa (99% AL2O3): fornisce un'eccellente stabilità termica e alta durezza, adatte a applicazioni ad alta temperatura o precisione.
• Granito: noto per la sua eccezionale planarità e stabilità, il granito fornisce una bassa espansione termica, ideale per applicazioni che richiedono un'alta precisione.
• Ceramica in carburo di silicio: noto per la sua alta conducibilità termica, resistenza chimica e durata, SIC è ideale per ambienti ad alte prestazioni in cui si incontrano condizioni estreme.

Piattenezza ad alta precisione: il mandrino del vuoto SIC poroso garantisce una piattaforma superiore, con precisione che varia in base al materiale utilizzato. La classifica dei materiali dalla precisione più alta al più bassa per la piattalità è:

Ceramica in carburo di granito e silicio: entrambi i materiali offrono piattalità ad alta precisione, garantendo la stabilità del wafer anche negli ambienti di elaborazione più impegnativi.

Allumina densa (99% AL2O3): leggermente meno planarità rispetto al granito e al SIC, ma offre ancora una buona precisione per le applicazioni generali a semiconduttore.

Lega di alluminio 6061 e SUS430: fornire una precisione di planarità leggermente più bassa ma sono ancora altamente affidabili per la gestione dei wafer in applicazioni meno esigenti.

Variazioni di peso per esigenze specifiche: il mandrino del vuoto SIC poroso consente agli utenti di scegliere tra una varietà di opzioni di materiale in base ai requisiti di peso:

Alluminio in lega 6061: la scelta del materiale più leggero, offrendo una facile maneggevolezza e trasporto.

Granito: un materiale di base più pesante che fornisce elevata stabilità e riduce al minimo le vibrazioni durante la lavorazione.

Ceramica in carburo di silicio: ha un peso moderato, che offre un equilibrio di durata e conducibilità termica.

Ceramica di allumina densa: l'opzione più pesante, ideale per le applicazioni in cui la stabilità e l'alta resistenza termica sono prioritarie.

Elevata durata e prestazioni: il mandrino del vuoto SIC poroso è progettato per prestazioni di lunga durata, in grado di resistere a variazioni di temperatura estrema e l'usura associata alla lavorazione dei semiconduttori. La variante ceramica in carburo di silicio è particolarmente benefica per ambienti ad alta temperatura e chimicamente aggressiva a causa della sua eccezionale resistenza all'espansione termica e alla corrosione.

Soluzioni economiche: con molteplici opzioni di materiale, il mantello del vuoto SIC poroso fornisce una soluzione economica che può essere adattata a budget e requisiti di applicazione diversi. Per le applicazioni generali, la lega di alluminio e SUS430 sono efficienti in termini di costi pur offrendo prestazioni soddisfacenti. Per ambienti più impegnativi, le opzioni in ceramica in granito o SIC offrono prestazioni e durata migliorate.

Applicazioni:

Il mandrino del vuoto poroso SIC viene utilizzato principalmente nell'industria dei semiconduttori per la gestione dei wafer, inclusi in processi come:

• Wafer Dinging and Taring
• Produzione fotovoltaica
• Crescita dell'epitassia MOCVD e CVD
• Impianto ionico
• Processi di ossidazione e diffusione

Il manico poroso poroso di Semicorex si distingue per la sua precisione, versatilità e durata. Sia che tu abbia bisogno di soluzioni leggere per la manipolazione generale o materiali avanzati per processi a semiconduttore ad alte prestazioni, il nostro prodotto offre una vasta gamma di opzioni per soddisfare le tue esigenze. Prodotti con i più alti standard di qualità, i nostri mandrini del vuoto garantiscono una gestione dei wafer affidabili ed efficienti per varie applicazioni, fornendo risultati coerenti sia in processi standard che specializzati.

Per le industrie in cui la stabilità del wafer e la maneggevolezza precisa sono cruciali, il mantello poroso SIC vuoto offre una soluzione ideale. Con la sua selezione di materiali, alta precisione e durata superiore, è la scelta perfetta per una vasta gamma di processi a semiconduttore.