Sic Chuck poroso
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Sic Chuck poroso

Semicorex Poroso SIC Chuck è un mandrino a vuoto in ceramica ad alte prestazioni progettato per l'adsorbimento sicuro e uniforme del wafer nella lavorazione dei semiconduttori. La sua struttura micro-porosa ingegnerizzata garantisce un'eccellente distribuzione del vuoto, rendendola ideale per applicazioni di precisione.*

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Descrizione del prodotto

Il SIC poroso di Semicorex è una parte ceramica che è stata assemblata con precisione per una gestione sicura ed efficiente dei substrati di wafer per applicazioni a semiconduttore attraverso fasi di processo come ispezione, test e litografia. Il Chuck è prodotto in micro porosa ceramica in carburo di silicio (SIC). SIC ha una resistenza meccanica, resistenza chimica e proprietà di stabilità termica necessarie per ambienti di produzione a semiconduttori all'avanguardia.


Una caratteristica essenziale di Sic Chuck poroso è la sua microstruttura unica, che mostra una porosità del 35%-40%. Con la porosità del mandrino strettamente controllato, il design sovrastante consente di erogare uniformemente l'aspirazione del vuoto attraverso il mandrino che genera supporto stabile e non contatto coerente per substrati di wafer tipicamente delicati: silicio o GAN e altri semiconduttori composti.  La modalità di aspirazione del vuoto evita sia la contaminazione delle particelle che il danno meccanico, preservando così l'integrità del wafer durante il processo.


Il corpo ceramico del mandrino è principalmente ad alta purezza SIC, con altre ceramiche, come l'allumina (AL2O3), potenzialmente utilizzata per un numero limitato di strati funzionali a seconda dell'applicazione. La ricerca e lo sviluppo del materiale consentono di gestire le dimensioni e la distribuzione dei pori per progettare il flusso d'aria e la forza di detenzione a seconda delle dimensioni del wafer e delle condizioni di processo. Se è importante controllare il vuoto su wafer più sottili, verranno incorporate dimensioni più piccole dei pori. Per portate più rapide, ove appropriato, verrà utilizzata la dimensione dei pori più grandi.


I Chucks Sic porosi presentano variazioni di colore a causa delle dimensioni variabili dei pori, delle composizioni ceramiche e delle condizioni di fuoco. I Chucks Sic tendono ad essere neri o grigio scuro poiché il colore del carburo di silicio è grigio o nero, tuttavia i mandrini con grande contenuto di allumina tendono ad essere di colore bianco sporco. Le varianze di colore non hanno alcun effetto sulle prestazioni del prodotto e rappresentano solo le proprietà ingegnerizzate create per applicazioni specifiche per conformarsi alle esigenze specifiche dei clienti.


Negli strumenti di elaborazione dei wafer di fascia alta, la stabilità termica e l'inerzia chimica sono le due caratteristiche più importanti. Il carburo di silicio offre un'eccellente resistenza ai gas di corrosione e al ciclo termico. Il Sic Chuck poroso opera con successo in camere di vuoto e strumenti di incisione al plasma e continua a funzionare bene con temperature in rapido cambiamento. La loro capacità di mantenere la stabilità dimensionale del mandrino garantisce che il wafer rimanga nella stessa posizione, anche se i requisiti di accuratezza possono essere inferiori al sottomicron a seconda del processo che contribuiscono alla stabilizzata dimensionale garantisce l'accuratezza.


I Chuck Sic porosi Semicorex sono realizzati utilizzando procedure di formazione e sinterizzazione autorizzate che forniscono porosità uniforme, elevata resistenza alla flessione e bassa espansione termica. Ogni mandrino viene ispezionato per la struttura dei pori, la planarità e le prestazioni del vuoto per garantire un prodotto affidabile e ripetibile. Sono inoltre disponibili progetti personalizzati per soddisfare le dimensioni specifiche del wafer e i requisiti di integrazione del sistema come canali di flusso di gas sul retro o funzionalità di montaggio.


In conclusione, il SIC Chuck poroso è un sistema di supporto al substrato ad alta affidabilità che è stato attentamente progettato per funzionare in combinazione con i requisiti per l'elaborazione del wafer di precisione. Con un'elevata capacità di detenzione del vuoto, struttura dei pori personalizzabili e eccezionale stabilità dei materiali, è un prodotto indispensabile nelle linee di fabbricazione dei semiconduttori di oggi.


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