L'anello di messa a fuoco per la lavorazione al plasma Semicorex è appositamente progettato per soddisfare le elevate esigenze di lavorazione dell'incisione al plasma nell'industria dei semiconduttori. I nostri componenti rivestiti in carburo di silicio avanzati e di elevata purezza sono costruiti per resistere ad ambienti estremi e sono adatti per l'uso in varie applicazioni, tra cui strati di carburo di silicio e semiconduttori epitassici.
Il nostro anello di messa a fuoco per la lavorazione al plasma è altamente stabile per RTA, RTP o pulizia chimica aggressiva, rendendoli la scelta ideale per l'uso in camere di incisione al plasma (o incisione a secco). Progettati per migliorare l'uniformità di incisione attorno al bordo o al perimetro del wafer, i nostri anelli di messa a fuoco o anelli di bordo sono progettati per ridurre al minimo la contaminazione e la manutenzione non programmata.
Il nostro rivestimento SiC è un rivestimento in carburo di silicio denso e resistente all'usura con elevate proprietà di resistenza alla corrosione e al calore, nonché un'eccellente conduttività termica. Applichiamo SiC in strati sottili sulla grafite utilizzando il processo di deposizione chimica da vapore (CVD). Ciò garantisce che i nostri anelli di messa a fuoco SiC abbiano una qualità e una durata superiori, rendendoli una scelta affidabile per le vostre esigenze di elaborazione dell'incisione al plasma.
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Parametri dell'anello di messa a fuoco per l'elaborazione del plasma
Principali caratteristiche del rivestimento CVD-SIC |
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Proprietà SiC-CVD |
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Struttura di cristallo |
FCC fase β |
|
Densità |
g/cm³ |
3.21 |
Durezza |
Durezza Vickers |
2500 |
Granulometria |
μm |
2~10 |
Purezza chimica |
% |
99.99995 |
Capacità termica |
J·kg-1 ·K-1 |
640 |
Temperatura di sublimazione |
℃ |
2700 |
Resistenza alla flessione |
MPa (RT 4 punti) |
415 |
Modulo di Young |
Gpa (curva 4pt, 1300℃) |
430 |
Espansione termica (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
Conduttività termica |
(W/mK) |
300 |
Caratteristiche dell'anello di messa a fuoco per l'elaborazione al plasma
- Rivestimenti in carburo di silicio CVD per migliorare la durata.
- Isolamento termico in carbonio rigido purificato ad alte prestazioni.
- Riscaldatore e piastra in composito di carbonio/carbonio.- Sia il substrato di grafite che lo strato di carburo di silicio hanno un'elevata conducibilità termica ed eccellenti proprietà di distribuzione del calore.
- Rivestimento in grafite e SiC ad alta purezza per resistenza ai fori stenopeici e maggiore durata