Pagaia cantilever SiC personalizzata

La pala a sbalzo Semicorex Custom SiC funge da collegamento critico tra il sistema di caricamento dei wafer e il cuore del forno a diffusione, responsabile del trasporto di imbarcazioni per wafer al quarzo o SiC cariche di wafer di silicio nella zona di lavorazione ad alta temperatura. Il loro design e le proprietà dei materiali sono meticolosamente ottimizzati per questo compito impegnativo:

Robusta struttura a sbalzo per un trasporto stabile dei wafer:Il design a sbalzo, caratterizzato da un braccio rigido che si estende nel forno, offre stabilità eccezionale e controllo preciso sul movimento del wafer. Ciò garantisce un trasporto fluido e privo di vibrazioni, riducendo al minimo il rischio di rottura o disallineamento dei wafer durante il carico e lo scarico.

Elevata capacità di carico per un'elaborazione batch efficiente:La resistenza e la rigidità intrinseche della ceramica SiC consentono alla pala cantilever SiC personalizzata di accogliere carichi pesanti di wafer di silicio, massimizzando la produttività di ciascun ciclo di diffusione e contribuendo a volumi di produzione più elevati.

Controllo dimensionale preciso per un'integrazione perfetta: La pala cantilever SiC personalizzata è fabbricata meticolosamente secondo specifiche dimensionali precise, garantendo un adattamento perfetto all'interno del sistema del forno a diffusione e facilitando l'integrazione perfetta con i robot automatizzati per la gestione dei wafer.

La selezione di ceramiche SiC, in particolareCarburo di silicio legato per reazione (RBSiC)ECarburo di silicio sinterizzato (SSiC), poiché il materiale scelto per la pala cantilever Custom SiC deriva dalle loro eccezionali caratteristiche prestazionali in ambienti ad alta temperatura:

Stabilità incrollabile alle alte temperature: La pala cantilever Custom SiC mostra un'eccezionale resistenza alla deformazione e allo scorrimento anche alle temperature elevate (fino a 1600°C) incontrate nei forni a diffusione. Ciò garantisce un supporto coerente del wafer e previene cedimenti o piegature che potrebbero compromettere l'uniformità del wafer.

Eccezionale resistenza agli shock termici:La capacità di resistere a rapide transizioni di temperatura senza danni è fondamentale per mantenere l'integrità della pala cantilever SiC personalizzata per innumerevoli cicli di diffusione. Le ceramiche SiC eccellono in questo senso, riducendo al minimo il rischio di crepe o fratture che potrebbero portare a costosi tempi di inattività.

Bassa dilatazione termica per un allineamento preciso:La minima espansione termica della ceramica SiC garantisce che la pala cantilever SiC personalizzata mantenga la sua stabilità dimensionale negli ampi intervalli di temperature riscontrati durante il funzionamento. Ciò è fondamentale per mantenere un preciso allineamento dei wafer all'interno del forno, garantendo un riscaldamento uniforme e profili di diffusione coerenti.