La piastra portante RTP in grafite SiC Semicorex per MOCVD offre una resistenza al calore e un'uniformità termica superiori, rendendola la soluzione perfetta per le applicazioni di elaborazione di wafer semiconduttori. Con una grafite rivestita di SiC di alta qualità, questo prodotto è progettato per resistere agli ambienti di deposizione più difficili per la crescita epitassiale. L'elevata conducibilità termica e le eccellenti proprietà di distribuzione del calore garantiscono prestazioni affidabili per RTA, RTP o pulizia chimica aggressiva.
La nostra piastra portante RTP in grafite SiC per MOCVD per la crescita epitassiale MOCVD è la soluzione perfetta per la gestione dei wafer e l'elaborazione della crescita epitassiale. Con una superficie liscia e un'elevata resistenza alla pulizia chimica, questo prodotto garantisce prestazioni affidabili in ambienti di deposizione difficili.
Il materiale della nostra piastra di supporto RTP in grafite SiC per MOCVD è progettato per prevenire crepe e delaminazione, mentre la resistenza al calore superiore e l'uniformità termica garantiscono prestazioni costanti per RTA, RTP o pulizia chimica aggressiva.
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Parametri della piastra portante RTP in grafite SiC per MOCVD
Principali specifiche del rivestimento CVD-SIC |
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Proprietà SiC-CVD |
||
Struttura di cristallo |
FCC fase β |
|
Densità |
g/cm³ |
3.21 |
Durezza |
Durezza Vickers |
2500 |
Granulometria |
μm |
2~10 |
Purezza chimica |
% |
99.99995 |
Capacità termica |
J·kg-1 ·K-1 |
640 |
Temperatura di sublimazione |
℃ |
2700 |
Resistenza alla flessione |
MPa (RT 4 punti) |
415 |
Modulo di Young |
Gpa (curva 4pt, 1300℃) |
430 |
Espansione termica (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
Conduttività termica |
(W/mK) |
300 |
Caratteristiche della piastra portante RTP in grafite SiC per MOCVD
Grafite rivestita di SiC di elevata purezza
Resistenza al calore superiore e uniformità termica
Fine rivestimento in cristallo SiC per una superficie liscia
Elevata durabilità contro la pulizia chimica
Il materiale è progettato in modo che non si verifichino crepe e delaminazioni.