Supporto per rivestimento SiC RTP

Il supporto di rivestimento Semicorex RTP SiC offre resistenza al calore e uniformità termica superiori, rendendolo la soluzione perfetta per le applicazioni di lavorazione dei wafer semiconduttori. Grazie alla grafite rivestita in SiC di alta qualità, questo prodotto è progettato per resistere agli ambienti di deposizione più difficili per la crescita epitassiale. L'elevata conduttività termica e le eccellenti proprietà di distribuzione del calore garantiscono prestazioni affidabili per RTA, RTP o pulizie chimiche aggressive.

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Descrizione del prodotto

Il nostro supporto per rivestimento SiC RTP è progettato per resistere alle condizioni più difficili dell'ambiente di deposizione. Grazie alla loro elevata resistenza al calore e alla corrosione, i suscettori epitassiali sono sottoposti all'ambiente di deposizione perfetto per la crescita epitassiale. Il sottile rivestimento in cristalli SiC sul supporto garantisce una superficie liscia e un'elevata resistenza alla pulizia chimica, mentre il materiale è progettato per prevenire crepe e delaminazione.
Noi di Semicorex ci concentriamo sulla fornitura di un supporto di rivestimento SiC RTP di alta qualità ed economicamente vantaggioso, diamo priorità alla soddisfazione del cliente e forniamo soluzioni economicamente vantaggiose. Non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine, offrendo prodotti di alta qualità e un servizio clienti eccezionale.
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Parametri del supporto di rivestimento RTP SiC

Specifiche principali del rivestimento CVD-SIC
Proprietà SiC-CVD
Struttura cristallina	Fase β dell'FCC
Densità	g/cm³	3.21
Durezza	Durezza Vickers	2500
Granulometria	µm	2~10
Purezza chimica	%	99.99995
Capacità termica	J kg-1 K-1	640
Temperatura di sublimazione	℃	2700
Forza flessionale	MPa (RT 4 punti)	415
Modulo di Young	Gpa (curvatura 4 punti, 1300 ℃)	430
Dilatazione Termica (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Conduttività termica	(W/mK)	300

Caratteristiche del supporto per rivestimento SiC RTP

Grafite rivestita in SiC ad elevata purezza
Resistenza al calore e uniformità termica superiori
Rivestimento in cristallo SiC fine per una superficie liscia
Elevata resistenza alla pulizia chimica
Il materiale è progettato in modo tale che non si verifichino crepe e delaminazioni.