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Cilindro del reattore epitassiale rivestito in SiC

Cilindro del reattore epitassiale rivestito in SiC

Il cilindro del reattore epitassiale rivestito di SiC Semicorex è un prodotto di grafite di alta qualità rivestito con SiC di elevata purezza. La sua eccellente densità e conduttività termica lo rendono una scelta ideale per l'uso nei processi LPE, fornendo un'eccezionale distribuzione del calore e protezione in ambienti corrosivi e ad alta temperatura.

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Descrizione del prodotto

Quando si tratta di produzione di semiconduttori, il cilindro del reattore epitassiale rivestito in SiC Semicorex è la scelta ideale per prestazioni superiori e un'eccezionale distribuzione del calore. Rivestito con SiC di elevata purezza, questo prodotto in grafite offre un'eccezionale resistenza alla corrosione e al calore, garantendo sempre risultati affidabili e costanti.

In Semicorex, ci concentriamo sulla fornitura di prodotti di alta qualità e convenienti ai nostri clienti. Il nostro cilindro del reattore epitassiale rivestito in SiC ha un vantaggio di prezzo e viene esportato in molti mercati europei e americani. Miriamo a essere il vostro partner a lungo termine, offrendo prodotti di qualità costante e un servizio clienti eccezionale.


Parametri del barilotto del reattore epitassiale rivestito di SiC

Principali specifiche del rivestimento CVD-SIC

Proprietà SiC-CVD

Struttura di cristallo

FCC fase β

Densità

g/cm³

3.21

Durezza

Durezza Vickers

2500

Granulometria

μm

2~10

Purezza chimica

%

99.99995

Capacità termica

J·kg-1 ·K-1

640

Temperatura di sublimazione

2700

Resistenza alla flessione

MPa (RT 4 punti)

415

Modulo di Young

Gpa (curva 4pt, 1300℃)

430

Espansione termica (C.T.E)

10-6K-1

4.5

Conduttività termica

(W/mK)

300


Caratteristiche del cilindro del reattore epitassiale rivestito in SiC

- Sia il substrato di grafite che lo strato di carburo di silicio hanno una buona densità e possono svolgere un buon ruolo protettivo in ambienti di lavoro ad alta temperatura e corrosivi.

- Il suscettore rivestito di carburo di silicio utilizzato per la crescita di un singolo cristallo ha una planarità superficiale molto elevata.

- Ridurre la differenza del coefficiente di espansione termica tra il substrato di grafite e lo strato di carburo di silicio, migliorare efficacemente la forza di adesione per prevenire fessurazioni e delaminazione.

- Sia il substrato di grafite che lo strato di carburo di silicio hanno un'elevata conduttività termica ed eccellenti proprietà di distribuzione del calore.

- Alto punto di fusione, resistenza all'ossidazione ad alta temperatura, resistenza alla corrosione.




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