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Supporto per wafer di silicio

Semicorex fornisce ceramiche di grado semiconduttore per i tuoi strumenti di semi-fabbricazione OEM e componenti per la gestione dei wafer concentrandosi sugli strati di carburo di silicio nelle industrie dei semiconduttori. Siamo produttori e fornitori di Silicon Wafer Carrier da molti anni. Il nostro Silicon Wafer Carrier ha un buon vantaggio di prezzo e copre la maggior parte dei mercati europei e americani. Non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.

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Piastra portante in grafite RTP

La piastra portante in grafite RTP di Semicorex è la soluzione perfetta per le applicazioni di elaborazione di wafer semiconduttori, inclusa la crescita epitassiale e l'elaborazione di manipolazione di wafer. Il nostro prodotto è progettato per offrire una resistenza al calore e un'uniformità termica superiori, assicurando che i suscettori dell'epitassia siano soggetti all'ambiente di deposizione, con elevata resistenza al calore e alla corrosione.

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Carrier RTP per la crescita epitassiale MOCVD

Semicorex RTP Carrier per la crescita epitassiale MOCVD è ideale per applicazioni di elaborazione di wafer semiconduttori, inclusa la crescita epitassiale e l'elaborazione di manipolazione di wafer. I suscettori di grafite di carbonio e i crogioli di quarzo vengono lavorati da MOCVD sulla superficie di grafite, ceramica, ecc. I nostri prodotti hanno un buon vantaggio di prezzo e coprono molti dei mercati europei e americani. Non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.

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Supporto per wafer per processo di incisione ICP

Il supporto per wafer di Semicorex per il processo di incisione ICP è la scelta perfetta per i processi impegnativi di manipolazione dei wafer e di deposizione di film sottili. Il nostro prodotto vanta una resistenza superiore al calore e alla corrosione, uniformità termica uniforme e modelli di flusso di gas laminare ottimali per risultati coerenti e affidabili.

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ICP Grafite rivestita di carbonio al silicio

La grafite rivestita di carbonio di silicio ICP di Semicorex è la scelta ideale per i processi di manipolazione dei wafer e di deposizione di film sottili. Il nostro prodotto vanta una resistenza superiore al calore e alla corrosione, uniformità termica uniforme e modelli di flusso di gas laminare ottimali.

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Sistema di incisione al plasma ICP per processo PSS

Scegliete il sistema di incisione al plasma ICP di Semicorex per il processo PSS per processi di epitassia e MOCVD di alta qualità. Il nostro prodotto è progettato specificamente per questi processi, offrendo una resistenza superiore al calore e alla corrosione. Con una superficie pulita e liscia, il nostro supporto è perfetto per maneggiare wafer incontaminati.

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Vuoi acquistare Substrate-Holder avanzati e durevoli? Semicorex è sicuramente la tua buona scelta. Siamo conosciuti come uno dei produttori e fornitori Substrate-Holder più competitivi in Cina. Forniamo anche imballaggi sfusi. Potresti aver bisogno di alcuni servizi personalizzati per soddisfare le effettive esigenze della tua regione, puoi lasciarci un messaggio attraverso le informazioni di contatto sulla pagina web. Diamo il benvenuto sinceramente ai clienti vecchi e nuovi a visitare la nostra fabbrica per la consultazione e la negoziazione.