Prodotti

SiC Process Tube è un reattore a forma di tubo nel trattamento termico per la lavorazione dei wafer. Semicorex si impegna a fornire prodotti di qualità a prezzi competitivi, non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.

Semicorex fornisce epitassia SiC personalizzata a film sottile (carburo di silicio) su substrati per lo sviluppo di dispositivi in ​​carburo di silicio. Semicorex si impegna a fornire prodotti di qualità a prezzi competitivi, non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.

Il soffione Semicorex CVD-SiC offre durabilità, eccellente gestione termica e resistenza alla degradazione chimica, rendendolo una scelta adatta per i processi CVD esigenti nel settore dei semiconduttori. Semicorex si impegna a fornire prodotti di qualità a prezzi competitivi, non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.

In un apparecchio al plasma per l'attacco e la deposizione chimica in fase vapore (CVD) di materiali su wafer, i gas di processo vengono immessi in una camera di processo attraverso una doccia in grafite rivestita in SiC CVD. Semicorex si impegna a fornire prodotti di qualità a prezzi competitivi, non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.

La pala a sbalzo in ceramica SiC in carburo di silicio con grande forza di caricamento del wafer è adatta per un sistema di caricamento e movimentazione automatico del robot perché ha prestazioni stabili, non deformazione alle alte temperature e una grande forza di caricamento del wafer. Semicorex si impegna a fornire prodotti di qualità a prezzi competitivi, non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.

Il substrato wafer Semicorex 3C-SiC è realizzato in SiC con cristallo cubico. Da molti anni siamo produttori e fornitori di wafer semiconduttori. Non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.